mr-NIL200-100nm 纳米压印光刻胶 mr-NIL200 系列

产品亮点

l自粘附特性：无需额外底涂剂（Primer），直接适用于硅、蓝宝石等多种基材，简化工艺流程，降低成本。

l高兼容性：专为气密性硬质印章（如石英、玻璃、OrmoStamp®）优化，确保图案转移的高保真度。

l快速光固化：在 320–420 nm 紫外光下高效固化，氧气干扰极低，适合工业化量产环境。

l精准膜厚控制：提供 100 nm、200 nm、300 nm 三种标准厚度，支持定制稀释（推荐稀释剂 mr-T 1078）。

为什么选择 mr-NIL200？

✅ Excellence的刻蚀掩模性能：纯有机配方，无硅残留，与反应离子刻蚀（RIE）工艺Perfection匹配，实现高分辨率图案转移。

✅ 工艺灵活性：适配主流纳米压印设备（如 EV Group、SUSS MicroTec），支持低压力（<100 mbar）压印，减少缺陷风险。

✅ 即用型配方：开瓶即用，旋涂后 60°C 预烘 3 分钟 即可进入压印步骤，大幅提升生产效率。

典型应用场景

l半导体器件：纳米线、光子晶体结构的批量制造。

l光学元件：AR/VR 衍射光栅、微透镜阵列的图案化。

l生物传感器：高精度微流控芯片的快速 prototyping。

技术参数速览

使用须知

l存储条件：需冷藏保存（4°C），使用前恢复至室温，避免冷凝污染。

l安全环保：无卤素溶剂，废弃按有机溶剂处理，符合环保标准。

l后处理：残余层可通过 O₂ 等离子体 或 热硫酸（Piranha） Thorough去除。