KASHIYAMA SDE200 真空泵

KASHIYAMA SDE200 真空泵

产品简介

KASHIYAMA SDE200 真空泵 是日本樫山工业（Kashiyama Industries, Ltd.）推出的一款高性能干式真空泵，隶属于 SDE 系列，专为应对半导体、显示器、化学气相沉积（CVD）等苛刻工艺环境而设计。

技术参数

• 大抽速性能：最大抽速可达 3,300 L/min，满足苛刻工艺对真空效率的高要求。

• 低极限压力：极限真空度低至 1.3 Pa，在未使用氮气吹扫时亦可维持高性能稳定运行。

• 干式运行设计：无油结构避免了污染风险，特别适合洁净室环境和高纯度工艺。

• 高可靠性结构：垂直安装的双螺杆结构可有效防止颗粒堆积，延长泵体寿命。

• 适应恶劣气氛：配备高耐腐蚀材料与温控系统，适用于处理腐蚀性和反应性气体。

产品特点

• 大抽速性能：最大抽速可达 1,300 L/min，满足苛刻工艺对真空效率的高要求。

• 低极限压力：极限真空度低至 1.3 Pa，在未使用氮气吹扫时亦可维持高性能稳定运行。

• 干式运行设计：无油结构避免了污染风险，特别适合洁净室环境和高纯度工艺。

• 高可靠性结构：垂直安装的双螺杆结构可有效防止颗粒堆积，延长泵体寿命。

• 适应恶劣气氛：配备高耐腐蚀材料与温控系统，适用于处理腐蚀性和反应性气体。

应用领域

• 半导体蚀刻设备（Etch）

• 化学气相沉积（CVD、PE-CVD、LP-CVD、SA-CVD）

• 原子层沉积（ALD）

• OLED 与液晶面板制造

• 精密薄膜沉积与剥离工艺

• 实验室与洁净室真空系统

可选功能配置

• 前级加热排气配管系统：防止冷凝和积碳，增强系统稳定性。

• 多级温控系统：根据不同应用调节泵体温度，提高兼容性。

• 除害装置联动接口：支持等离子、燃烧、冷凝等除害方式接入，提升环保性能。

• 远程监控与报警系统：实时掌握泵体运行状态，便于系统集成与自动化管理。