PICOSUN ALD R-300 PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300高级版
- 公司名称 北京亚科晨旭科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号 PICOSUN ALD R-300
- 产地 芬兰
- 厂商性质 生产厂家
- 更新时间 2020/9/4 15:59:34
- 访问次数 1258
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| 产地类别 | 进口 | 价格区间 | 50万-100万 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 化工,能源,电子,航天 |
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300高级版
（PICOSUN™ ALD P-300 Advanced）
名称：原子层沉积系统 产地：芬兰
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300高级版
Picosun简介
Picosun是yi家公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强其客户包括 大的电子制造商，小型的创新型挑战者以及的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN®研发工具具有*的内置可扩展性，可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引ling行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。
PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现的均匀性，包括具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度小的薄膜层。在基本的PICOSUN™ R系列配置中可以选择多个独立的，*分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN™ R系列*的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN™ P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN™反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中，就会吸引到企业投资。
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300高级版
PICOSUN®R-300高级
Picosun™ 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM™300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的专业机柜，装载着前驱体和电子元件，保证了快速简便的维护和短的停机时间。PICOSUN™ P系列工具保证了大产能以及节约成本的情况下得到的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。
工艺咨询和开发，产能提升，维护保养流程和系统及工艺的故障排除，我们客户化定制的PICOSUPPORT™综合解决方案24小时快速响应，随时待命。在购买之前，我们的演示服务保证了设备可以100%满足客户苛刻的产线需求。
技术指标
衬底尺寸和类型 | 156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（双面/背对背） |
高达300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（双面/背对背） | |
大批量的3D产品（例如：钟表部件，珠宝，硬币，医疗植入部件，机械部件等） | |
粉末与颗粒 | |
Roll-to-roll, 衬底大宽 300 mm | |
多孔，通孔，与高深宽比（HAR）样品 | |
工艺温度 | 50-500℃ |
基片传送选件 | 气动升降（手动装载） |
半自动装载，用线性装载器实现 | |
全自动转载，用工业机器人实现 | |
前驱体 | 液态、固态、气态、臭氧源 |
前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务 | |
4根独立源管线，多加载6个前驱体源 | |
重量 | 400 + 300 kg |
尺寸 (W x H x D) | 149 cm x 191 cm x 111 cm |
选件 | PICOFLOW™ 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。 |
验收标准 | 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 |
应用领域
客户使用PICOSUN™ R系列ALD 设备在150mm和200mm（6“和8”）晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。
材料 | 非均匀性(1σ) |
AI2O3 (batch) | 0.13% |
SiO2 (batch) | 0.77% |
TiO2 | 0.28% |
HfO2 | 0.47% |
ZnO | 0.94% |
Ta2O5 | 1.00% |
TiN | 1.10% |
CeO2 | 1.52% |
Pt | 3.41% |
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300高级版
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