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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>匀胶机>MSC/SC1/2 CIF匀胶旋涂仪

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MSC/SC1/2 CIF匀胶旋涂仪

具体成交价以合同协议为准

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企业历程 :

◆ 2006 年,在美国加州洛杉矶注册成立赛福国际集团有限公司(CIF International Group Co.,Ltd)。成立之初是一 家面向大学科研院所销售仪器设备的供应商。

◆ 2008 年, 自主研发生产石墨电热板以来, 先后研发生产酸蒸逆流清洗器、酸纯化器、智能消解仪等理化实验仪器设备, 从此走上研发生产专业化道路。

◆ 2010 年,掌握了等离子核心技术,自主研发生产科研型等离子清洗机系列产品。

◆ 2014 年, 在中国注册成立华仪行(北京) 科技有限公司, 正式进入中国市场, 部分仪器设备研发、制造业务移至中国。

◆ 2015 年,自主研发生产专为处理粉体样品而设计转瓶等离子清洗机。

◆ 2017 年,自主研发生产紫外臭氧清洗机系列产品。

◆ 2018 年,在中国成注册立赛福仪器承德有限公司,将研发制造业务全部移至中国。

◆ 2019 年,电镜专用远程等离子清洗机研发成功。

◆ 2021 年,自主研发生产中试、生产型等离子清洗系列产品,完善了等离子产品线。

◆ 2023 年,科研型等离子去胶机、RIE 蚀刻机研发成功。


公司专注材料表面处理技术:

◆ 改性(等离子清洗机、紫外臭氧清洗机)                   ◆ 去胶(等离子去胶机)

◆ 蚀刻(等离子刻蚀机)                                              ◆ 涂层(等离子溅射镀膜机、匀胶机、烤胶机)

企业愿景:

致力于为全球用户提供专业的表面处理整体解决方案。

企业使命:

CIF与我们的员工、客户乃至商业伙伴在内的所有人,同呼吸,共命运,共同成长,共同发展,共同成就梦想!


半导体领域仪器设备:等离子清洗机、紫外臭氧清洗机、匀胶机、烤胶机等。 理化实验室仪器设备:酸蒸逆流清洗器、真空赶酸系统、酸纯化器、智能消解仪、恒温电热板等

产品特点

◆  采用闭环控制伺服电机,数字式增速信号反馈,速匀准确,寿命长,保证匀胶均匀。

  7 寸全彩中英文互动操作触摸屏,智能程序化可编程操控显示,标配 10 个匀胶梯度阶段(速度和时间梯度设置  选配 20 个可编程程序,每个程序下可设置 10 个匀胶梯度阶段,最多 100 个阶段。

  内置水平校准装置,大限度的保证旋涂均匀,可对大小不同规格的基片进行旋涂。

◆  多重安全保护电磁安全开关,盖子打开卡盘停止,保证安全;盖子自锁功能,防止飞片盖弹开伤人;

双重安全上盖,聚四氟嵌镶钢化玻璃,避免单一玻璃或者亚克力上盖飞片伤人,大限度保证实验人员安全。

◆  样品托盘卡口和样品托盘之间三重密封安全保护,有效降低电机进胶的风险。

◆  一机两用,根据不同样品可选真空吸盘和非真空卡盘两种旋涂方式。

◆  符合人体功能学的水平取放样品旋涂托盘设计,取放样品更方便。

  不锈钢喷塑涂层旋涂壳体,旋涂腔体采用 PTFE 材料。旋涂托盘采用聚丙烯(NPP-H)材料,耐酸碱防腐蚀,保证仪器 在苛刻条件下仍能正常运行。

◆  上下双腔体设计,较大的上腔体便于擦拭去除胶液,锥形下腔体结构设计便于收集胶液,并带废胶收集装置。

◆  可选氮气吹扫、氮气保护,自动滴胶或简易滴胶装置,提供更多的操作便利性。

◆  适用硅片、玻璃、石英、金属、GaAs,GaN,InP 等多种材料。

 技术参数

 

型号

MSC

SC1

SC2

转速

0-10000rpm

0-10000rpm

0-10000rpm

加速度

0-10000rpm/s

0-10000rpm/s

0-10000rpm/s

转速稳定度

±1%

±1%

±1%

匀胶时间

0-9999s

0-9999s

0-9999s

工作舱直径

直径 180mm

直径 180mm

直径 240mm

基片尺寸

圆片 Φ=6 吋,方片最大 105x105mm

圆片 Φ=6 吋,方片最大 105x105mm

圆片 Φ=8 吋,方片最大 140x140mm

外型尺寸

L245xW325xH215mm

L245xW325xH285mm

L305xW385xH285mm

包装尺寸

L365xW445xH335mm

L365xW445xH405mm

L425xW505xH405mm

整机重量

6.3Kg

7.6Kg

11.6Kg



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