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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>去胶机>NEO系列 TRYMAX 等离子除胶机

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NEO系列 TRYMAX 等离子除胶机

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公司自成立以来就一直专注于半导体、微组装和电子装配等领域的设备集成和技术服务;目前公司拥有一支在半导体制造、微组装及电子装配等领域经验丰富的专业技术团队,专业服务于混合电路、光电模块、MEMS、先进封装(TSV、Fan-out等)、化合物半导体、微波器件、功率器件、红外探测、声波器件、集成电路、分立器件、微纳等领域。我们不仅能为客户提供整套性能可靠的设备,还能根据客户的实际生产需求制订可行的工艺技术方案。
目前亚科电子已与众多微电子封装和半导体制造设备企业建立了良好的合作关系(如:BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等),为向客户提供先进的设备和专业的技术服务打下了坚实基础。


半导体设备,微组装设备,LTCC设备,化工检测设备

TRYMAX 等离子除胶机介绍

亚科电子的合作伙伴Trymax公司于2003年在荷兰成立,该公司主要提供半导体等离子清洗、去胶、活化设备。

Trymax目前拥有半自动、全自动系列设备供用户选择,目前已有上百台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统、微流体器件、SOI基片制造、先进封装、化合物半导体器件、功率器件和光电显示等领域。

一、设备工作原理

等离子体是物质的一种存在状态,该状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。

Trymax NEO Series就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频/微波电源在一定的真空条件下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。

二、Trymax NEO Series 应用

前道:Light Etching;Descum strip;PR Ashing;离子注入后,光刻后,镀膜前等工艺过程; 后道/先进封装/3D IC:Descum Bumping;MEMS。




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