高真空蒸发镀膜

高真空蒸发镀膜为方型室蒸镀设备，可满足用户实现单质膜，多层膜及镀制复合膜的工艺要求。

　　蒸镀室是以电阻加热的方式实现蒸发镀膜功能的，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在需镀衬底上蒸镀各种金属单层或多层膜，适用于实验室制备金属、氧化物、介质、扫描电镜制样等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等，整套设备操作简便，综合功能多，扩展空间大，适合及满足院校的教学与科研

　　高真空蒸发镀膜由于采用了超高真空密封技术，极限真空高，恢复工作真空时间短；整机主要采用金属密封技术及超高真空阀门，前后开门采用氟胶圈，真空管路用不锈钢金属波纹管路，避免了传统结构带来的安装维护困难的问题。

　　设备工作条件

　　1、供电：～380V三相供电系统（容量12KW），冷却水循环量0.3M3/H，工作环境温度10℃～40℃，冷却水温度15℃～20℃。

　　2、设备极限真空：5×10-5Pa；漏率：7×10-8Pa•L/S；工作真空：6×10-4Pa；恢复工作真空时间小于40分钟（充干燥氮气）。

　　3、基片转速：5～30转／分 连续可调。

　　4、基片尺寸4英寸，基片离蒸发源的间距为260mm±40mm。

　　5、设备安装面积1.8m（L）x1.5m（B）x1.9m（H）。