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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>热工艺设备/热处理设备>退火炉>RTP-100 VH (高)真空快速退火炉RTP-100

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RTP-100 VH (高)真空快速退火炉RTP-100

具体成交价以合同协议为准

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


First-Nano System GmbH 

  • 2003年          创立于德国德累斯顿工业大学(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司中国代表处,负责中国区业务

  • 2018年          深圳正式成立韦氏纳米系统(深圳)有限公司,更好的为中国南方区市场

     

德国韦氏纳米系统成立以来,一直为客户想的更多,Thinking more !!!

 

产品范围:

薄膜沉积/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

等离子清洗机,均胶机,薄膜沉积,刻蚀

应用领域:

  • 离子注入/接触退火;

  • 快速热处理(RTP),快速退火(RTA),快速热氧化(RTO),快速热氮化(RTN);

  • 可在真空、惰性气氛、氧气、氢气、混合气等不同气体氛围环境下使用;

  • SiAu, SiAl, SiMo合金化;

  • 低介电材料;

  • 晶体化,致密化;

  • 太阳能电池片键合;

  • 电阻烧结

  • 其他热工艺需求

  • 等等...

 

 

产品特点:

- 真空快速退火炉,有RTP-100型号    低真空(10-3 hPa)

                                  RTP-100-HV      高真空(10-6 hPa);

- 可应用在不同气氛环境下使用,如惰性气体、氧气、氢氮混合气等;

- 控制方式:SPS人机界面控制,7英寸触摸屏控制;

- 可存储50个程序,每个程序最多分为50步骤控制;

- 全自动智能控制,包括温度、时间、气体流量、真空度、冷却水均可自动设置;

- 优异的温控均匀性,的工艺重复性;

 

技术规格:

- 最高温度:1200℃;

- 升温速率:150℃/秒;

- 降温速度:200℃/分钟 (1000℃-->400℃);

- 温控均匀性:≤ 1.5%设定温度;

- 加热方式:红外卤素灯,顶部及底部加热,也可单独控制加热

- 灯管数量及功率:18支/20KW

- 腔体冷却:水冷方式,独立冷却源

- 衬底冷却:氮气吹扫;

- 工艺气路:MFC控制,最多4路 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等);

相关分类

氧化扩散设备


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