RTP-100 VH (高)真空快速退火炉RTP-100
- 公司名称 韦氏纳米系统(深圳)有限公司
- 品牌
- 型号 RTP-100 VH
- 产地
- 厂商性质 代理商
- 更新时间 2018/8/20 15:10:46
- 访问次数 3016
联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!
应用领域:
离子注入/接触退火;
快速热处理(RTP),快速退火(RTA),快速热氧化(RTO),快速热氮化(RTN);
可在真空、惰性气氛、氧气、氢气、混合气等不同气体氛围环境下使用;
SiAu, SiAl, SiMo合金化;
低介电材料;
晶体化,致密化;
太阳能电池片键合;
电阻烧结
其他热工艺需求
等等...
产品特点:
- 真空快速退火炉,有RTP-100型号 低真空(10-3 hPa)
RTP-100-HV 高真空(10-6 hPa);
- 可应用在不同气氛环境下使用,如惰性气体、氧气、氢氮混合气等;
- 控制方式:SPS人机界面控制,7英寸触摸屏控制;
- 可存储50个程序,每个程序最多分为50步骤控制;
- 全自动智能控制,包括温度、时间、气体流量、真空度、冷却水均可自动设置;
- 优异的温控均匀性,的工艺重复性;
技术规格:
- 最高温度:1200℃;
- 升温速率:150℃/秒;
- 降温速度:200℃/分钟 (1000℃-->400℃);
- 温控均匀性:≤ 1.5%设定温度;
- 加热方式:红外卤素灯,顶部及底部加热,也可单独控制加热
- 灯管数量及功率:18支/20KW
- 腔体冷却:水冷方式,独立冷却源
- 衬底冷却:氮气吹扫;
- 工艺气路:MFC控制,最多4路 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等);