官方微信|手机版

产品展厅

产品求购企业资讯会展

发布询价单

化工仪器网>产品展厅>环境监测仪器>辐射测量仪器>其它辐射测量>Toho FLX-2320-S 薄膜应力测量系统

分享
举报 评价

Toho FLX-2320-S 薄膜应力测量系统

具体成交价以合同协议为准

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


First-Nano System GmbH 

  • 2003年          创立于德国德累斯顿工业大学(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司中国代表处,负责中国区业务

  • 2018年          深圳正式成立韦氏纳米系统(深圳)有限公司,更好的为中国南方区市场

     

德国韦氏纳米系统成立以来,一直为客户想的更多,Thinking more !!!

 

产品范围:

薄膜沉积/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

等离子清洗机,均胶机,薄膜沉积,刻蚀

薄膜应力测量:

在硅片等基板上附膜时,由于基板和薄膜的物理定数有异,产生应力,进而引起基板变形。由涂抹均匀的薄膜引起的变形的表现为基板的翘曲,而薄膜应力测量装置FLX系列可从这个翘曲(曲率半径)的变化量测量其应力。

 

技术参数:

Toho FLX-2320-S薄膜应力计精确测量多种衬底材料、金属和电介质等薄膜应力。

 

主要特点

       ◆双光源扫描(可见光激光源及不可见光激光源),系统可自动选择最适合的匹配之激光源; 
       ◆系统内置升温、降温模拟系统,便于量测不同温度下薄膜的应力,温度调节范围为-65℃至500℃; 
       ◆自带常用材料的弹性系数数据库,并可根据客户需要添加新型材料相关信息至数据库,便于新材料研究; 
       ◆形象的软件分析功能,用于不同测量记录之间的比较,且测量记录可导出成Excel等格式的文档; 
       ◆具有薄膜应力3D绘图功能。

 

用户界面:

WINDOWS OS易懂操作界面。

另搭载丰富的基板材料数据库。自动保存测量数据等方便性能。

每个用户可分别设定访问权限。使用自带软件实现简单却性能高,简单测量。



化工仪器网

采购商登录
记住账号    找回密码
没有账号?免费注册

提示

×

*您想获取产品的资料:

以上可多选,勾选其他,可自行输入要求

个人信息: