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SE系列 椭偏仪

具体成交价以合同协议为准
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椭偏仪椭偏仪

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


First-Nano System GmbH 

  • 2003年          创立于德国德累斯顿工业大学(Dresden University of Technology)

  • 2008年          香港成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司   

  • 2015年          上海成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司中国代表处,负责中国区业务

  • 2018年          深圳正式成立韦氏纳米系统(深圳)有限公司,更好的为中国南方区市场

     

德国韦氏纳米系统成立以来,一直为客户想的更多,Thinking more !!!

 

产品范围:

薄膜沉积/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

等离子清洗机,均胶机,薄膜沉积,刻蚀

椭偏仪是一种利用偏振态的变化 后光束探测样品反应技术。不像反射仪,椭偏仪参数(PSI和Del)是在非正常的入射角得到。改变入射角。可以得到更多的数据集,这将有助于精炼模型,减少不确定性和提高用户的数据信心。因此,可变角度椭偏仪比固定角度的椭偏仪系统具有更强大的功能 。目前有两种方法改变入射角,手动或自动模式。

Ansgtrom Sun公司设计角度调整模型,通过5度间隔后精确预置槽移动手臂手动调节角度和电动精密测角0.01度分辨率两种模型。此外,测角垂直布局设计,样品可以水平放置,这是更安全的处理样品时。可靠的和足够的原始数据集,更多膜的性能参数,如薄膜或涂层 厚度,光学常数(折射率n,消光系数k指数)、接口、孔隙度甚至成分可以通过建模。在这个意义上,*的软件是一个必须为高性能光谱椭偏仪(SE)工具。我们开发了TFprobe 3 x版软件的系统设置。仿真,测量,分析,数据管理和2D / 3D图形演示的一体机。  此外,SE200工具覆盖了很宽的波长范围内,从深紫外线(DUV)在可见光到近红外(250~1100nm),标准配置。DUV范围适合衡量超薄膜,如纳米厚度范围。一个例子是在硅晶片上的原生氧化层,这是典型的2nm厚的。深紫外光谱椭偏仪也是必不可少的,用户需要测量多种材料的带隙。

 



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