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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>匀胶机>L2001A3 Ossila匀胶机

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L2001A3 Ossila匀胶机

具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称 迈可诺技术有限公司
  • 品牌 Ossila/欧西拉
  • 型号 L2001A3
  • 产地 英国
  • 厂商性质 代理商
  • 更新时间 2025/5/15 9:49:26
  • 访问次数 6711

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半导体化工领域专业实验设备供应商:迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司,专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商,迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务,帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定,尊重他们的决定,并协助他们实现高效率的科研成果,追求丰富有意义的生活。




匀胶机,光刻机,显影机,等离子清洗机,紫外臭氧清洗机,紫外固化箱,压片机,等离子去胶机,刻蚀机,加热板

旋涂是一种广泛使用的多功能技术,用于将材料沉积到基材上,从而获得可控的薄膜厚度。该款Ossila匀胶机价格实惠,操作简单,结构小巧紧凑,占地空间小,为实验室提供了理想的解决方案。该款Ossila匀胶机采用创新设计的托盘,无需真空泵或充氮气,就能达到很好的旋涂效果;内置调整水平装置,保证旋涂均匀;可对大小不同规格的基片进行旋涂。

 

为什么要无真空?

市场上的大多数使用真空泵在旋转时保持基材。 与其他产品不同的是,该款采用创新设计的托盘,衬底通过切入聚丙烯托盘的凹槽保持在适当的位置,使多余的涂层材料被排出。

 

Ossila匀胶机

该款托盘将基材固定在适当位置,无需真空,确保其稳定性。

 

真空吸盘很可能会造成较薄的基材向内翘曲,影响涂层的均匀性,降低设备的质量和性能。 而这款无真空吸盘可确保您的基材平整无损,即使它们是柔性基材,也能保持均匀的薄膜分布。

 

Ossila匀胶机

与常规旋涂仪相比,该款无真空旋涂仪能够实现均匀的薄膜分布。

 

真空旋涂仪只能安装在有真空管路的地方,固定在保留设置的位置上,不用时会占用空间。 由于不需要真空管线,该款旋涂仪可以安装在任何位置,可以在台面上,通风橱和手套箱中使用,只需一个电源插座。

 

大多数旋涂仪都被真空泵的隐藏成本所困扰,这些真空泵通常需单独报价。 真空泵容易断裂,造成昂贵的维修费用,延误实验进程。 这主要是由于过量的溶剂被吸入真空管路中,损坏了内部元件。使用该款无真空旋涂仪可以减少短期和长期成本,为您提供启动旋涂所需的一切 - 1950英镑的全包价格。 我们还提供免费的1年保修服务,以便在需要维修的情况下尽快恢复设备正常工作。

 

产品特点:

体积小巧:可在手套箱和通风厨内使用,基座面积仅为22.5 x 17 cm

易安装:开机即用(无需真空泵、充氮气)

智能程序化控制:旋转速度从1206000 rpm可编程,可对不同基片进行旋涂(从缓慢干燥结晶到超薄膜)。此外,内置的控制系统有10个独立的用户配置文件 - 每个配置文件可以节省10个程序,可达50个步骤。

旋涂质量好:内置的水平仪和可调节支脚可确保平面旋转轴,无真空吸盘可防止在薄基材上发生翘曲,这两个因素带来了*的旋涂效果。

低成本、低维修率:使用真空的旋涂系统容易损坏,修理程序复杂。 该款需要移动部件很少,无需真空,并且质保1年,节省很多保养维护费用。

耐酸碱防腐蚀的防护材质:坚固的不锈钢外壳,钢化玻璃盖和耐酸碱防腐蚀的衬垫和托盘,在各种苛刻条件下仍能保证设备正常运行。

安全:24 V直流电源供电,不使用高电压或电源。 防止溶剂溅出、程序篡改,采用智能程序控制自动联锁,保证设备运行安全。

 

技术参数:

用户配置文件:10个;

程序:每个用户配置文件上有10个程序,每个程序多达50个步骤;

转速稳定性:<2%

旋转速度:120 - 6000 RPM

旋涂时间:1 - 1000 sec

电源:DC 24V 2A,通过100-240v 50 / 60Hz电源适配器;

联锁:工作状态盖子自动锁止功能;

尺寸:225 x 170 x 132 mm

材质:PP腔体,不锈钢外壳,钢化玻璃盖。

 

 

 



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