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聚焦纳米薄膜制备环节 雷博科仪多款机型同期亮相第十六届纳博会
2026年10月23日 11:02:38
来源：化工仪器网 作者：宋池 点击量：2692
江苏雷博科学仪器有限公司亮相第十六届纳博会，展出AC300-S-CTM程控伺服匀胶机、HP100-SE标准型程控烤胶机和DM200-SE全封闭式桌面显影机三款薄膜制备设备，覆盖半导体、光电器件及新能源材料等纳米薄膜工艺前段需求。
第十六届国际纳米技术产业博览会(简称“纳博会”)于10月21日在苏州国际博览中心开幕，展会为期三天，将持续至10月23日。本届展会展区面积2.6万平方米，汇聚国内外350余家企业，覆盖微纳制造、半导体、光电电子及新材料等领域，形成“上游核心材料设备—中游芯片制造封测—下游终端应用”的产业链布局。
作为一家专注于高性能实验室仪器设备研发、生产和销售的技术型企业，江苏雷博科学仪器有限公司(简称“雷博科仪”)携多款薄膜制备类设备参展，重点展示了AC300-S-CTM高精密程控伺服匀胶机、HP100-SE标准型程控烤胶机和DM200-SE全封闭式桌面显影机三款机型，覆盖匀胶、显影、烤胶等纳米薄膜制备环节。
AC300-S-CTM高精密程控伺服匀胶机
AC300-S-CTM高精密程控伺服匀胶机采用伺服电机驱动，配合PLC控制和7寸全彩触屏，最大转速5,000 RPM(空载)，转速分辨率±1 RPM，最大加速度10,000 RPM/S(空载)，可处理从小于1 cm的碎片到12英寸标准晶圆范围内的基片。更大尺寸、重型底物及内腔抽真空等需求可按定制方式实现。设备可加装背部清洗和去边胶功能，也可选配防溅罩式清洗与显影功能。还有真空调压和真空数显功能，可直观显示当前真空数显值。
HP100-SE标准型程控烤胶机
HP100-SE标准型程控烤胶机解决了涂胶后烘烤环节的温控精度问题。加热面板为硬质阳极氧化铝材质，配备7英寸全彩触屏与PLC控制，支持降低操作高度的嵌入式安装设计。控温范围室温至400℃，温度分辨率0.1℃，控温精度≤±0.2℃。设备带有自动顶升功能，顶针调节距离0～30 mm，可实现接近式烤胶模式，适用于8英寸以下基片。
DM200-SE全封闭式桌面显影机
DM200-SE全封闭式桌面显影机将关注点放在显影过程的环境隔离与操作安全上。全封闭式结构用于减少显影雾气向外部环境的扩散，内腔采用不锈钢镀特氟龙处理，外壳喷塑，兼顾耐腐蚀与易清洁。设备内置真空过滤器，真空压力和液体流量均可调节，最大支持从碎片至200 mm(8英寸)晶圆的处理范围。标准配置为三路管路(显影液、纯水、氮气)，内置100组可编辑程序，并可根据客户需求定制四管路或更大基片的机型。
雷博科仪成立于2013年9月，主要面向高科技企业、科研院所等研发技术人员提供实验室仪器设备。公司现有产品线分为两大类：一是薄膜制备类，包括匀胶机、烤胶机、显影机、真空镀膜机、狭缝涂布机、等离子清洗机、紫外臭氧清洗机等，应用于钙钛矿薄膜太阳能电池、半导体有机光电器件和材料等纳米薄膜制备领域；二是电镜制样类，包括超薄切片机、半薄修块机、玻璃制刀机、电解双喷减薄仪、离子溅射仪等，用于电镜样品制备。
本次展会，雷博科仪以薄膜制备工艺链条上的前段设备为主，三款机型在基片尺寸、控温与封闭结构等指标上各有侧重。未来，雷博科仪将继续围绕薄膜制备推进设备研发与配套服务，重点面向半导体、光电器件、新能源材料等领域的实验室及产线前段工艺需求，并根据客户基片尺寸、工艺路线等条件提供定制化方案。
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