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华仪行(北京)科技有限公司

11
  • 2022

    09-08

    转瓶等离子清洗机在运行时应该要注意哪些呢?

    转瓶等离子清洗机也叫等离子表面处理仪,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁等目的。转瓶等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。那么等离子清洗机在运行时应该要注意哪些呢?下面就由转瓶等离子清洗机厂家来给大家讲讲吧:1、正确设置等离子设备的运行参数,按时设备使用说明书来执行;2、保护好等离子体的点火装置,以确保等离子清洗机可以正常的启动;3、
  • 2022

    09-08

    匀胶旋涂仪的工作流程概述

    匀胶旋涂仪是把胶均匀地涂在基片上的一种机器。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学,硅片、载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。匀胶旋涂仪的匀胶过程包括滴胶,高速旋转以及干燥(溶剂挥发)几个步骤。1、滴胶这一步把光刻胶滴注到基片表面上,高速旋转把光刻胶铺展到基片上形成簿层,干燥这一步除去胶层中多余的溶剂。2、匀胶转速是匀胶过程中重要的因素。基片的转速不仅影响到作用于光刻胶的离心力,而且还关系到紧挨着基片表面空气的*湍动和基片与空气的相对运动速度。膜厚在很大程
  • 2022

    08-09

    等离子清洗机如何对粉体进行处理?

    等离子清洗机是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、涂覆等目的。等离子体作用在粉体上,可以有目的地改变粉体的物理化学性质,在保持粉体原有性能的前提下,赋予其表面新的性能,使其表面性质由疏水性变为亲水性或由亲水性变为疏水性,从而改善粉体粒子表面的浸润性,增强粉体粒子在介质中的界面相容性,使粒子容易分散在水中或有机化合物中。等离子清洗机对粉体进行处理过程有以下三个方面:1、等离子体处理是为了提高粉体的亲水性,其主要工艺是利用He、Ar和O2、CO2、NH3等反应气体在粉体表面进行物
  • 2022

    07-15

    石墨电热板在使用时这些事项要注意

    石墨电热板的面板采用耐酸碱、耐高温的石墨材料,与其它产品相比,更具抗腐蚀、耐高温的特点。适用于工矿企业、医疗卫生、生化、科研等单位实验室做化学分析,物理测定,热处理等物品的烘培,干燥和作其它温度试验。使用注意事项:1、使用之前先把石墨电热板上的残留污渍用抹布清洗干净,保证石墨电热板表面没有残留的污垢异物等。2、清理完毕后在石墨电热板上放置需要实验的烧杯、器皿等。然后打开石墨电热板开关,当电热板处于工作状态时开始实验即可。3、在设备工作过程中实验人员尽量不要远离石墨电热板,这样可以避免一些危险状况
  • 2022

    05-10

    等离子清洗机的工作流程

    随着社会的发展及技术的需要,工业生产对生产材料的要求也不断增强,如在微电子封装工艺中,电子设备的小型化、高精度,对封装工艺的可靠性提出了相应的要求,高质量的封装技术可以提高电子产品的使用寿命。等离子清洗机是利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质
  • 2022

    04-13

    等离子表面处理仪的作用及用途

    等离子体是由被剥夺部分电子后的原子及原子团电离产生的离子化气体状物质,具有比气态、液态、固态物质都高的能量范围,被称为物质的第四态。等离子体是由离子、电子和中性粒子组成的中性集合体,在与材料表面撞击时会将自己的能量传递给材料表面的分子和原子,产生一系列物理和化学过程。一些粒子还会注入到材料表面引起碰撞、散射、激发、重排、异构、缺陷、晶化及非晶化,从而改变材料的表面性能。等离子表面处理仪是通过利用对气体施加足够的能量使之离化成为等离子状态,利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、改性、
  • 2022

    03-31

    CIF真空赶酸系统隆重上市!----40分钟搞定酸气清除!

    号外!号外!美国CIF公司真空赶酸系统隆重上市啦!看长相一目倾心!看设计无瑕,看质量!CIF真空赶酸系统将传统的常压赶酸所需的3-4小时缩短到30-40分钟(150度),大大提高赶酸效率,缩短了赶酸时间。另外,CIF整个真空赶酸系统为密闭系统,由隔膜真空泵提供真空,负压运行,将样品中酸蒸汽通过冷凝、碱液中和活性炭吸附等方式收集,不外排!直到把酸气赶到实验要求允许的量,避免了高浓度酸液对精密分析仪器损坏,延长了仪器的使用寿命,保证了实验室人员安全,减少了环境污染。CIF真空赶酸系统产品特点:CIF
  • 2022

    03-23

    高压消解罐在使用时的注意事项有哪些?

    高压消解罐又叫水热合成反应釜,是化学实验室常用的小型高压消解反应器。主要用于快速消解难溶样品,也可用于少量的合成反应。在密闭环境中,样品在强酸强碱和高温高压同时作用下达到快速消解之目的。高压消解罐是利用罐体内高温高压密封体系(强酸或强碱)的环境来达到快速消解难溶物质的目的,可使消解过程大为缩短,且使被测组份的挥发损失降到*小,提高测定的准确性。高压消解罐具有外形美观,结构合理,操作简便,抗腐蚀性好等特点,消解效率高,能力强,能消解许多传统方法难以消解的样品。是高校实验室、环境监测,质量监督等科研
  • 2022

    02-11

    匀胶旋涂仪在使用过程中的使用注意事项

    匀胶旋涂仪操作简单,结构小巧紧凑,占地空间小,为实验室提供了理想的解决方案。可用于实验室项目建设.作为用于除半导体外,还有硅片、芯片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺,科研、教学之用。匀胶旋涂仪的使用注意事项:1.使用前主要检查设备与真空泵和氮气瓶的接口是否漏气;2.实验时,依次打开设备电源开关,氮气/干燥气体瓶阀门,真空开关,结束时,先关真空,再关氮气/干燥气体瓶阀门;3.氮气/干燥气体的压力控制不宜过大建议氮气瓶气压从0.35MPa起缓慢上调,直至设备控制面板上的CDA停止闪烁即停止调整;
  • 2022

    01-14

    紫外臭氧清洗机的保养技巧

    紫外臭氧清洗机提供一种简单,经济,快速获得超洁净的表面,去除大多数无机基材(比如石英,硅片,金,镍,铝,砷化镓,氧化铝等)上的有机污染物。作用是通过紫外光和臭氧将衬底表面的油脂和有机物氧化祛除,以达到清洁的效果。同时改变了衬底表面的亲疏水性,优化墨水在衬底上的打印效果。紫外臭氧清洗机的保养事项:1、在干燥通风平稳的位置安放设备。2、在对设备使用的过程,需要特别留心,不要对产品进行随意地挪动或者不能够将紫外臭氧清洗机的上盖打开,从而防止导致溢水的情况发生。3、在对设备使用结束以后,为了防止机器内部
  • 2021

    12-14

    来了解下等离子清洗机的清洗原理

    固态、液态和气态是人们每时每刻所感知的三种物质状态,这三种状态的物质是由原子和分子构成。通过输入能量(如热量),可实现物质从一种状态转化为另一种状态。当气态物质被进一步加热到更高的温度时,或是气体在受到高能量的照射后,气体物质就转化为第四态,即等离子体态。在这种状态下,部分气体原子已解离成电子和离子,也有一些在吸收能量后变成具有化学活性的亚稳态原子。在这种状态中,不但包含有一定能量的中性原子和分子,而且还有相当量的带电粒子、一定量的带有化学活性的亚稳态原子和分子。电离出的自由电子总的负电量与正离
  • 2021

    05-31

    亚沸蒸馏酸纯化系统的优点及原理

    随着ICP-MS、GC-MS等痕量、超痕量检测技术的广泛应用,人们发现试剂不纯带来空白值高的问题已经制约了这些痕量检测技术的实际应用。同时,一些高纯的金属、半导体和其他材料领域,也对试剂的纯度提出了更高的要求。为此,人们开始寻求各种试剂纯化技术和设备,以获得高纯度的试剂,分析化学领域的科学家们也越来越来重视高纯酸的再纯化。亚沸蒸馏酸纯化系统满足您对痕量元素分析的所有需求。该设备是一款集纯化、消解、赶酸、和清洗为一体的多功能的小型实验室设备,既可用于实验室酸、碱溶液和有机溶剂的纯化,也可以用做微型
  • 2021

    05-12

    紫外臭氧清洗机为什么使用广泛?

    随着光电子产业的迅猛发展,清洗工艺在光电产品中是不会缺少的工艺,清洗对产品的质量、精度、外观等方面的影响也越来越重要。如何保证产品的高可靠性和高成品率,且同时保证生产的安全性及生产过程中对环境的保护?那么,对使用者来说选择高洁净度,且又具有安全、环保性能的清洗设备尤为重要,在以往的清洗技术(化学清洗和物理清洗)中,很难达到要求。那在又安全又环保的前提下,如何*清除物体表面的污物?目前国外广泛使用的清洗方法是紫外光臭氧清洗,它能避免由于使用有机溶剂造成的污染,同时能够将清洗过程缩短。紫外臭氧清洗机
  • 2021

    05-08

    为使匀胶旋涂仪达到预期的效果,在使用时应注意这几点

    匀胶旋涂仪快速启动和稳定的转速,能够保证胶厚度的一致性和均匀性。主要用于微细加工、半导体、微电子、光电子和纳米技术工艺中在硅片、陶瓷片上匀胶等工艺与光刻、烘烤等设备配合使用。适用于半导体工艺,制版及表面涂覆等工艺,可在科研、教育等单位作科研、教学之用。匀胶旋涂仪的使用注意事项:1、在开机前,要抬起控制键以及吸片键,将电源开启以后,分别将各键按下进行操作,从而使没有启动电机就转动得以避免。2、片子尺寸不一样,选用的片托的尺寸也不一样,厚度低于1.5毫米的片子对带吸气槽的片托进行选用,厚度高于1.5
  • 2021

    04-27

    紫外臭氧清洗机的应用范围

    紫外臭氧清洗机在工作时是给臭氧发生器供电,臭氧发生器产生臭氧,由臭氧泵通过臭氧管输送到洗菜机的洗涤桶中,在洗涤桶中与水机接触,溶解在水中形成臭氧水,臭氧水具有很强的杀菌、消毒,降解农药作用。使用过后可将产品表面清洗处理的均匀度一致,可*清除物体表面的碳和有机污染物,保证产品的高可靠性和高成品率。紫外臭氧清洗机的应用领域有:1、主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法较为合适。2、主要材料:IT0玻璃、
  • 2021

    04-25

    真空赶酸系统是怎么进行工作的?

    在面对微波消解完赶酸过程中经常遇到的赶酸时间长、酸腐蚀严重存在的问题,使用真空赶酸系统可以把原来的赶酸时间从原来的3-4个小时缩短到30-40分钟之间,大大提高赶酸效率,并且通过碱液吸收,可避免酸气的腐蚀,杜绝污染。真空赶酸系统采用集成式优化设计系统包括真空回收系统、石墨加热器两大部分组成。石墨加热器产生高温加热样品,将样品中酸蒸成酸蒸气由真空泵抽到碱液收集瓶子中直到把酸气赶到实验室允许的量,避免高浓度酸夜损坏仪器。真空系统加速蒸汽的形成和转移,从而节省赶酸时间,由于每个样品都是在独立空间中完成
  • 2021

    04-23

    酸蒸逆流清洗器的工作原理

    洁净的样品前处理容器是获得可靠分析结果的前提。痕量分析所使用的微波消解罐、常压消解罐、玻璃器皿(试管、烧杯、容量瓶等)等的痕量清洗,对于实验室人员来说,始终是一个非常繁琐而又非常重要的挑战。使用酸蒸逆流清洗器可以解决这些问题。酸蒸逆流清洗器能大大提高清洗效率,缩短清洗时间,终端酸过滤回收系统,可在密闭条件下进行酸蒸馏超清洗,有效防止实验室污染。酸蒸逆流清洗器的工作原理利用酸亚沸状态,产生纯净酸蒸汽。通过自然冷凝酸蒸汽与器皿表面接触凝结成液珠,在重力条件下回流到桶内,反复循环。将器皿表面的金属离子
  • 2021

    04-20

    紫外臭氧清洗机的使用注意事项

    紫外臭氧清洗机在现代信息技术行业中使用光清洗技术比较普遍,随着我国工业现代化的发展,光清洗和光改质技术还将逐步应用于金属、塑料、橡胶等工业生产领域。紫外臭氧清洗机提供一种简单,经济,快速获得超洁净的表面,去除大多数无机基材(比如石英,硅片,金,镍,铝,砷化镓,氧化铝等)上的有机污染物。在使用紫外臭氧清洗机时应注意以下事项:1、严格按机器规定加工范围内加工木料,否则将导致机器损坏和工作人员伤害,固化机应有适当屏敝装备,紫外光不易透出。2、适当的个人防护,穿长袖衣服、布工作手套,戴防紫外线眼镜、面罩
  • 2021

    04-09

    影响匀胶旋涂仪匀胶效果的因素有哪些?

    匀胶旋涂仪可用于除半导体外,还有硅片、芯片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺,科研、教学之用高精度涂敷。影响匀胶效果的因素有匀胶速度、匀胶加速度、控制精度等因素。匀胶转速:基片的转速不仅影响到作用于光刻胶的离心力,而且还关系到紧挨着基片表面空气的*湍动和基片与空气的相对运动速度。光刻胶的最终膜厚通常都由匀胶转速所决定。尤其在高速旋转这个阶段,转速±50rpm这样微小变化就能造成最终膜厚产生10%的偏差。膜厚在很大程度上是作用于液体光刻胶上﹑方向朝基片边缘的剪刀力与影响光刻胶粘度的干燥(溶剂挥发
  • 2021

    03-29

    亚沸酸蒸清洗器怎么使用?

    洁净的样品反应管是获得正确分析结果的前提,传统的清洗方法是把实验容器置于酸缸或热酸中浸泡数小时甚至更长时间,这种方法效率低、酸消耗量大,为了避免交叉污染,需要定期更换酸,否则将给实验数据带来巨大的风险。对于实验室人员来说,始终是一个非常繁琐而又非常重要的挑战。而亚沸酸蒸清洗确保了痕量分析和超痕量分析的准确性。亚沸酸蒸清洗器的使用方法:1、是一种自动、密闭、酸蒸汽清洗方法。2、通过内置可控温加热系统,利用亚沸状态下产生的酸蒸汽,安全高效地对可溶于酸中的任何痕量金属污染物进行超净清洗。3、热蒸汽的高
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