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随着光电子产业的迅猛发展，清洗工艺在光电产品中是不会缺少的工艺，清洗对产品的质量、精度、外观等方面的影响也越来越重要。如何保证产品的高可靠性和高成品率，且同时保证生产的安全性及生产过程中对环境的保护?那么，对使用者来说选择高洁净度，且又具有安全、环保性能的清洗设备尤为重要，在以往的清洗技术(化学清洗和物理清洗)中，很难达到要求。那在又安全又环保的前提下，如何*清除物体表面的污物?目前国外广泛使用的清洗方法是紫外光臭氧清洗，它能避免由于使用有机溶剂造成的污染，同时能够将清洗过程缩短。
紫外臭氧清洗机是一种采用无接触方式，在空气中进行且在清洗后不必进行干燥。在清洗过程中主要是依靠等中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态，气相物质被吸附在固体表面，被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子，产物分子解析形成气相，反应残余物脱离表面。
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