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EVG的GEMINI FB XT集成熔合系统扩展了当前标准,并结合了更高的生产率,更高的对准度和覆盖精度,适用于诸如存储器堆叠,3D片上系统(SoC),背面照明...
SOI晶片是微电子行业有望生产出更快,性能更高的微电子设备的有希望的新基础材料。晶圆键合技术是SOI晶圆制造工艺的一项关键技术,可在绝缘基板上实现高质量的单晶硅...
适用于SOI,MEMS,化合物半导体和先进基板键合的低温等离子体活化系统; 技术数据:EVG810 LT LowTemp™等离子活化系统是具有手动操...
适用于SOI,MEMS,化合物半导体和先进基板键合的低温等离子体活化系统; 技术数据:EVG810 LT LowTemp™等离子活化系统是具有手动操...
EVG301半自动化单晶片清洗系统采用一个清洗站,该清洗站使用标准的去离子水冲洗以及超音速,毛刷和稀释化学药品作为附加清洗选项来清洗晶片。
EVG301半自动化单晶片清洗系统采用一个清洗站,该清洗站使用标准的去离子水冲洗以及超音速,毛刷和稀释化学药品作为附加清洗选项来清洗晶片。
融合或直接晶圆键合可通过每个晶圆表面上的介电层连接,该介电层用于工程衬底或层转移应用,例如背面照明的CMOS图像传感器。混合键合扩展了与键合界面中嵌入的金属焊盘...
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