电子束光刻系统特点1.采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪2.出色的电子束偏转控制技术3.采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率（address size）可达0....

高性能电子束曝光机是一款高性能的纳米光刻系统，拥有完整200mm尺寸的光刻能力，这款电子束光刻系统代表了不断进化的高度成功和广为市场接受的EBPG系列产品。

EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟电子束曝光机EBPG5200一样的通用光刻平台设计，

PIONEER Two将专业电子束曝光设备和电子成像系统所有的先进性能，融合成一套独立的成套系统。多功能性、稳定性、用户友好性操作，使PIONEER Two系统...

探索超越电子束曝光功能的纳米工程系统超高分辨电子束曝光、成像及纳米工程系统纳米加工领域的瑞士

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是的方法之一。先进纳米科技提供;的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（E...

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供的电子束纳米光刻（E...

产品特点1.采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪 2.出色的电子束偏转控制技术 3.采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率（ad...

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作的方法之一。

PIONEERTM集成了电子束曝光及成像分析双功能，是高校和科研人员的理想选择。从理念上，PIONEERTwo是一个全新的*的设备，真正意义上实现了电子束曝光和...

多用途的纳米光刻系统eLINE Plus被广泛用于大学和研究中心，该系统有很多多功能附件可供用户选择，满足用户对电子束光刻机多功能性的要求。除具有专业的电子束光...

shi jie*个*集成式Xe等离子源聚焦离子束扫描电子显微镜----FERA3，提供了超高离子束束流（zui高束流为2µA），其溅射速度比Ga离子源...