离子溅射仪新品推荐

离子溅射仪新品推荐

———天泽智能科技发展（天津）有限责任公司

TZZN-200离子溅射仪结构及溅射原理

（tzzn-200型）

整体含溅射主机和真空系统组成，溅射靶头被设置成为一个二级溅射结构，通过均匀恒定的电场激发并电离气体分子，形成稳定的辉光放电现象，被电离的离子和电子在这个电场下进行加速，从而使靶原子逃离靶材表面在样品上面形成纳米涂层（如图一）。

图一

对原有产品的改进和升级改造

改造前的溅射源（靶头）TZZN-200/100

改造后的溅射源（靶头）TZZN-1000/CK/STX型

增加了一个恒定的磁场形成磁控约束方式，在辉光放电的过程中，带电粒子在原来的电场加速状态下，附加一个恒定的用磁场，利用带电粒子的特性，从而达到约束粒子运动的方向，改变原有的运动，改善溅射源的工作效率。

外加磁场的设置方式可根据不同的需求进行改变，经过试验天泽智能科技发展（天津）有限责任公司采取沉浸式的磁控方式，这种方式的优势，对于控制离子的运动和靶材的利用改善。

其他的升级和便利化设计，也都在天泽智能科技发展（天津）有限责任公司的广大客户帮助下进行便利化，通用化的改造升级。

如下：

1.增加的靶头的铰链结构

2. 升降样品台结构设计

3. 电子计时的升级

4.外观优化

5.增加自动放气系统

6.改善密封系统更好的保护样品室

  通过系统化的改造升级，天泽智能科技发展（天津）有限责任公司推出新型的TZZN-1000磁控离子溅射仪，并在此基础上不断地改进，目前相继推出了定制的直径达到125毫米超大溅射靶头溅射仪，为了避免氧化反应的专用手套箱离子溅射仪等，欢迎广大新老朋友咨询和来样检测。

通过扫描电子显微镜图片分析，天泽智能科技发展（天津）有限责任公司新推出的TZZN-100/1000系列，高分辨大倍率的图像下镀膜的均匀性可以媲美同类型的进口产品。

截止目前我公司的200型离子溅射单台稳定使用时间已经长达10年，新品离子溅射仪在继承高稳定、高可靠性的前提下，更加契合新老朋友的需求，同时也感谢多年以来对我司的支持和理解。

天泽智能科技发展天津有限责任公司