曝光系统一体机 返回列表页

产品应用：   

    MAS4-BE光刻系统一体机可实现一机多用，集成化程度更高，占地面积更小。广泛应用于高校研究所实验的光刻工艺，可完成涂胶、烘烤、曝光、显影工序。

工艺步骤：

涂胶（放片、滴胶、旋转、取片）→烤机（放片、烘烤、取片）→曝光（放片、曝光、取片）→显影（放片、旋转显影和水洗、取片）→取片（转移下道工序）。

控制系统

控制系统由PC和PLC控制模式，实时显示设备运行过程中各工艺功能执行情况。 可实现自由的配方编辑，自由修改、编辑、存储、及调用工艺配方等。 

技术参数：