全柜式涂胶显影机该设备用于 8 寸晶圆的涂胶、显影、烘烤工艺；设备包括主要的工艺模块：涂胶模块 COT,显影模块 DEV、热 盘 HP 等（各腔体间有挡板隔开）...

桌上型半自动显影机MSD-150D主要应用于曝光后的显影工艺。该设备主要由显影腔单元、自动摆臂单元、 以及供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统等组成，整机采用...

桌上型旋转涂布机将溶液涂覆在硅片、FTO、ITO、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要应用于钙钛矿电池和光刻胶涂敷成膜等领域。主要应用于4、6寸样品。该款可为客户提...

钙钛矿旋涂仪应用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有...

旋涂仪应用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。应...

应用：在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。应用：在...

MSD-150D主要应用于曝光后的显影工艺。该设备主要由显影腔单元、自动摆臂单元、 以及供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统等组成，整机采用框架结构，外表为镜...

桌上型显影机MSD-150D主要应用于曝光后的显影工艺。该设备主要由显影腔单元、自动摆臂单元、 以及供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统等组成，整机采用框架结...

自动滴胶匀胶机，MSC-200T-D桌上型半自动旋转涂布机用于对均匀性和一致性要求较高的表面涂布工艺，将光刻胶溶液自动涂覆在硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂...

匀胶机设备简介：桌上型旋转涂布机，用于对均匀性要求较高的表面涂布工艺，将光刻胶溶液手动涂覆在硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂等基片上形成薄膜，主要应用于12...

MAS4-BE光刻系统一体机主要由匀胶单元、烤胶单元、曝光单元、显影单元等部分组成，该设备针对高校研究所实验室，特点是占地面积小，性价价比更高。整机采用框架结构...

针筒式旋转涂布机MSC-200T-D桌上型半自动旋转涂布机用于对均匀性和一致性要求较高的表面涂布工艺，将光刻胶溶液自动涂覆在硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂...

设备简介：桌上型旋转涂布机，用于对均匀性要求较高的表面涂布工艺，将光刻胶溶液手动涂覆在硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂等基片上形成薄膜，主要应用于12寸以内...