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森泰克刻蚀机Etchlab 200 适用于氟基气体以及氧气、氩气等工艺气体，具有非常高的工艺稳定性和重复性。升级增加预真空室后，可使用氯基气体、完成金属、化合物...
森泰克感应耦合等离子刻蚀机SI 500干法刻蚀系统广泛应用于半导体制造、微纳加工、MEMS制造等领域。它可以用于刻蚀多种材料，包括但不限于三五族化合物半导体（如...
简要描述：RIE等离子刻蚀机2我们的等离子蚀刻设备包括用功能强大的用户友好软件与模拟图形用户界面，参数窗口，工艺窗口，数据记录和用户管理。
简要描述：RIE等离子刻蚀机该等离子刻蚀机配备了用户友好的强大软件，具有模拟图形用户界面，参数窗口，工艺编辑窗口，数据记录和用户管理。
简要描述：ICP-RIE等离子刻蚀机三螺旋平行板天线(PTSA)等离子源是SENTECH等离子体工艺设备的属性。PTSA源能生成具有高离子密度和低离子能量的均匀...
简要描述：等离子沉积设备低刻蚀速率，高击穿电压，低应力、不损伤衬底以及在低于100#176;C的沉积温度下的低界面态密度，使得所沉积的薄膜具有优异的性能。
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