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森泰克刻蚀机Etchlab 200 适用于氟基气体以及氧气、氩气等工艺气体,具有非常高的工艺稳定性和重复性。升级增加预真空室后,可使用氯基气体、完成金属、化合物...
森泰克感应耦合等离子刻蚀机SI 500干法刻蚀系统广泛应用于半导体制造、微纳加工、MEMS制造等领域。它可以用于刻蚀多种材料,包括但不限于三五族化合物半导体(如...
日本倾斜角RIE等离子蚀刻机的简介:日本倾斜角刻蚀代表了直接置片等离子刻蚀机家族,它结合了RIE的平行板电极设计和直接置片的成本效益设计的优点。Etchlab2...
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