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一、产品介绍:CIF推出全新一代实验室型等离子体清洗设备,传统等离子体清洗设备设计理念,可中试生产、模拟生产条件,几乎具备等离子体清洗设备所有的功能
一、产品介绍:等离子清洗设备在材料学,光学,电子学,医药学,环境学、生物学等科研领域,主要用于材料表面进行清洗、活化、改性等目的
一、产品介绍CIF透射电镜(TEM)样品杆清洗机采用远程离子清洗源设计,清洗快速高效,低轰击损伤,同时可实现常规等离子清洗
v清洗机可以用于对晶圆表面,背面及晶圆边缘的清洗,通过创新研发的二流体喷嘴技术可将附着在晶圆表面的细微颗粒污染物去除,实现高效去除
v该系列设备是晶圆CMP后的专用清洗设备,有单工位、转位式、连线式等不同结构,以适用不同应用场景,其中连线式设备加配全自动上下片系统
v机器电源:100~240VAC,50/60Hz,单相v电机功率:1Hp[750W]v磨盘直径:8in[203mm],10in[254mm]v磨盘转速:10~5...
v该化学机械抛光机可用于各类半导体集成电路、氧化物、金属、STI、SOI等产品的CMP平坦化抛光
v半导体研磨抛光机是一款操作简单的桌面型单面抛光设备
概述:沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业软件控制系统;4英寸镀膜区域内片内膜厚不均匀性...
v分子束外延,是在超高真空系统中把所需要的结晶材料放入到喷射炉中,将喷射炉加热
vKeysightN1000ADCA-X宽带宽示波器可以对50Mb/s到224Gb/s的高速数字设计执行精准测量
v兼容200mm以下所有尺寸的晶圆
vM9484CVXG是是德科技款矢量信号发生器,在每个通道上提供2.5GHz调制带宽,能够生成高达54GHz的信号
vKeysightM8199A任意波形发生器(AWG)拥有4个128GSa/s采样率的通道
vAstrella提供更好的数据并降低整体数据成本
v应用领域:Pillar
v应用领域:RCA清洗
v应用范围:对重掺杂碳化硅(SiC)表面沉积的过渡金属进行退火
vKeysightN5511A相位噪声测试系统(PNTS)的量程达到kl(-177dBm/Hz),让您可以执行物理极限测量
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