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展会报道|颐光科技与您相约2026慕尼黑上海光博会颐光科技诚邀您参加2026年3月18-20日在上海新国际博览中心举办的慕尼黑上海光博会。届时,颐光科技将携多项核心技术产品与解决方案亮相展会,竭诚欢迎
新岁启新程|武汉颐光科技有限公司乔迁新址岁序更替,华章日新。公司因业务的快速发展和规模不断壮大,值此2026年开春之际,武汉颐光科技有限公司正式乔迁至湖北省武汉市洪山区佛祖岭四路2号武汉精测电子集团股
2025年3月11-13日,慕尼黑上海光博会在上海新国际博览中心圆满收官。本届展会为业界呈现了一场高层次的科技盛宴。同时,本届展会从展示范围的广泛度、光电产品的丰富度、趋势传递的新颖度、交流合作的深入
慕尼黑上海光博会将于2025年3月11-13日在上海新国际博览中心盛大召开。2025年正值慕尼黑上海光博会20周年,作为亚洲激光、光学、光电行业的年度盛会,本届展会以“躬耕不辍,智启新程”为主题,超过
华中科技大学联合武汉颐光科技科技有限公司开发的“高精度宽光谱穆勒矩阵椭偏测量关键技术与纳米测量应用”项目荣获湖北省技术发明一等奖。此奖项由省人民政府设立,经省科学技术奖励评审委员会评审、省科学技术奖励
显微膜厚仪是一种集显微镜成像与膜厚测量功能于一体的高精度仪器,能够在微小区域内实现非接触、非破坏性的薄膜厚度测量。功能与性能参数:多参数测量:厚度范围:覆盖1nm至毫米级,支持单层至多层薄膜分析。光学
光谱椭偏仪是基于椭圆偏振测量原理的高精度光学仪器,主要用于表征薄膜和材料的光学特性与微观结构。测量流程:设定入射角(如70°)和波长范围;偏振光照射样品,反射光进入探测系统;通过旋转起偏器/检偏器或使
如何用好光谱椭偏仪?在纳米薄膜、光学涂层、半导体晶圆、光电材料的研发与检测里,光谱椭偏仪是绕不开的“高精度检测设备”。小到纳米级薄膜厚度,精到材料的折射率、消光系数和介电常数,再到多层薄膜结构解析,椭
光谱椭偏仪是非接触、无损、高灵敏度的光学测量仪器,用于精确测定薄膜的厚度。它通过分析偏振光在样品表面反射后的偏振态变化,反演材料的光学常数与几何结构,在半导体、光伏、显示、光学镀膜、生物传感及基础科研
在光刻工艺中,抗反射涂层(ARC)被广泛用于抑制反射光带来的不利影响。ARC的主要成分包括树脂、热致酸发生剂、表面活性剂和溶剂。其抗反射机制一方面依靠树脂中吸光基团实现,另一方面通过精确设计涂层的厚度
显微膜厚仪是集成显微视觉与光学干涉技术的微区、非接触、纳米级薄膜测量设备,核心用于半导体、显示、光学镀膜等领域的微小区域膜厚与光学常数精准表征。工作原理:光的干涉:当光线照射到薄膜表面时,会在薄膜的前
光谱椭偏仪是一种非接触、无损的精密光学表征设备,通过测量偏振光与样品表面相互作用后的偏振态变化,精准推导样品的光学常数、薄膜厚度、晶体结构、组分浓度、表面粗糙度等关键信息,覆盖紫外(UV)、可见光(V
反射膜厚仪被广泛应用于材料科学、半导体工业、光学涂层等领域,其测量精度直接影响到产品的质量。在进行膜厚测量时,测量角度是一个至关重要的因素。选取合适的测量角度不仅有助于提高测量的准确性,也能有效减少测
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