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目录:高德英特(北京)科技有限公司>>X射线光电子能谱仪>>XPS>> PHI GENESIS 500PHI X射线光电子能谱仪

PHI X射线光电子能谱仪
  • PHI X射线光电子能谱仪
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
  • 品牌 ULVAC- PHI
  • 型号 PHI GENESIS 500
  • 厂商性质 代理商
  • 所在地 南京市
属性

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更新时间:2024-01-17 14:26:49浏览次数:195评价

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价格区间 面议 仪器种类 进口
应用领域 化工,能源,电子,综合
XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy),又称ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis),是利用X射线入射样品 表面,探测样品表面出射的光电子,来获得表面组成及化学态信息的一种表面分析方法。XPS可对元素成分进行定性定量分析, 同时通过微聚焦扫描技术可以实现微米级空间分辨能力,因此广泛应用于科学研究和高科

简单易操作

PHI GENESIS 提供了一种全新的用户体验,仪器高性能、全自动化、简单易操作。 操作界面可在同一个屏幕内设置常规和高级的多功能测试参数,同时保留诸如进样照片导航和 SXI 二次电子影 像精准定位等功能。


简单友好的 用户界面

PHI GENESIS 提供了

一个简单、直观且易 于操作的用户界面, 对于操作人员非常友 好,操作人员执行简 单的设置操作即可完 成包括所有选配附件 在内的自动化分析。

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多功能选配附件

原位的多功能自动化分析, 涵盖了从 LEIPS 测试导带到 HAXPES 芯能级激发 的全范围技术,相比于传统的 XPS 而言, PHI GENESIS 体现了的性能价值。

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全面的优良解决方案 :

高性能 XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIB 及多种其他 选配附件可以满足所有表面分析需求。

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多数量样品大面积分析

- 多数量样品大面积分析

- 把制备好样品的样品托放进进样腔室后将自动传送进分析腔室内

- 可同时使用三个样品托

- 80mm×80mm 的大样品托可放置多数量样品

- 可分析粉末、粗糙表面、绝缘体、形状复杂等各种各样的样品

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独1无2的可聚焦≤5μm 的微区 X 射线束斑

在 PHI GENESIS 中, 聚焦扫描 X 射线 源可以激发二次电子影像(SXI),利用 二次电子影像可以进行导航、精准定位、多点多区域同时分析测试以及 深度剖析。

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大幅提升的二次电子影像 (SXI)

二次电子影像(SXI)精准定 位,保证了所见即所得。  5μmX 射线束斑为微区 XPS 分析应用提供了新的机遇。

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快速深度剖析

PHI GENESIS 可实现高性能的深度剖析。聚焦 X 射线源、高灵敏度探测器、高性能氩离子枪和高效双束中和系 统可实现全自动深度剖析,包括在同一个溅射刻蚀坑内进行多点同时分析。

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高性能的深度剖析能力

( 下图左 ) 全固态电池薄膜的深度剖析。深度剖面清晰地显示了在 2.0 μm 以下富 Li 界面的存在。 ( 下图右 ) 在 LiPON 膜沉积初期,可以看到氧从 LiCoO 2 层转移到 LiPON 层中,使 Co 在 LiCoO 2 层富 Li 界面由 氧化态还原为金属态。

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角分辨 XPS 分析

PHI GENESIS XPS 的高灵敏度微区分析和高度可重

现的中和性能确保了对样品角分辨分析的性 能。另外,样品倾斜和样品旋转相结合,可同时实现角度的高分辨率和能量的高分辨率。

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PHI GENESIS 多功能分析平台在各种研究领域的应用

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