光刻胶-2-乙基-2-金刚烷基丙烯酸酯

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光刻胶-2-乙基-2-金刚烷基丙烯酸酯

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂,是通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。

中文名称：2-乙基-2-金刚烷基丙烯酸酯

英文名称：2-Ethyl-2-adamantyl acrylate

CAS号：303186-14-3

分子量：234.33400

密度：1.06g/cm3

沸点：301.864ºC at 760 mmHg

分子式：C15H22O2

熔点：N/A

MSDS：N/A

闪点：123.039ºC

纳米氧化物复合材料光刻胶

紫外光刻胶

深紫外光刻胶

不饱和电子束光刻胶类型

降解型（正性）光刻胶

交联型（负性）光刻胶

聚物SU-8光刻胶

聚合物AZ4620光刻胶

环氧型负性光刻胶HTIN 683

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