蔡司显微镜Xradia Ultra 纳米级X射线成像 返回列表页

蔡司显微镜Xradia Ultra 纳米级X射线成像能力的先进设备。这款设备结合了吸收衬度和相位衬度的功能，并通过使用由同步辐射光学器件改造而来的附件，使其在光子能量为5.4KeV时的纳米成像能力提高了10倍。

对于中低原子序数的样品，Xradia 810 Ultra的低能量特性能够实现更优质的衬度和图像质量。其无损分析步骤的加入，使这款设备在研究领域取得了重大突破。设备能够在5.4 keV下利用更高的衬度对许多难以成像的材料进行高分辨率的X射线成像。此外，它还可以利用吸收衬度和相衬技术来优化各种材料的成像，包括聚合物、氧化物、复合材料、燃料电池、地质样品以及生物材料等。

蔡司显微镜Xradia Ultra 纳米级X射线成像技术的引入，不仅提高了成像速度，还扩展了X射线成像在科学和工业领域的应用。无论是科学研究还是工业应用，这款设备都能提供高精度、高分辨率的X射线成像，为研究者提供丰富的材料信息和微观结构细节。

总的来说，蔡司Xradia Ultra纳米级X射线成像技术是一种先进的无损分析技术，具有广泛的应用前景。无论是在材料科学、地质学、生物学还是其他领域，它都能为研究者提供深入洞察材料特性和行为的能力，推动科学的进步。