火焰辅助喷雾热分解涂覆设备--MSK-TH-04FA 参考价：面议
MSK-TH-04FA has been developed for research in surface quality improvement of me...
超声雾化热解涂覆薄膜设备-- MSK-SP-04-LD 参考价：面议
喷雾热解制膜法，是将溶液雾化后喷涂到加热的基底上，然后在基底上得到想得到的物质结构。此种材料制备方法特别适用于沉积氧化物，而且在制备透明电极的应用中已有相当长的...
超声波雾化模块（含130W的电源控制器和喷头）--MSK-SP-01A 参考价：面议
超声波雾化是利用超声波能量将液体或是胶状法分散成微米级的颗粒，其特点为雾粒喷出的初速度较小，且分散的雾粒尺寸较均匀。MSK-SP-01A就是一超声雾化模块，含有...
2英寸高真空磁控溅射头--HVMSS-SPC-2-LD 参考价：面议
HVMSS-SPC-2是一款可安装直径为2英寸靶材的磁控溅射头，可适用的靶材种类较广，如金属/绝缘靶材或磁性/非磁性靶材。环形NdFeB永磁体安装在溅射头上，以...
500W直流溅射电源--DC-500-LD 参考价：面议
500W直流溅射电源--DC-500-LD
1英寸高真空磁控溅射头--HVMSS-SPC-1-LD 参考价：面议
HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头，可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配，以至于可以溅射各种靶材（如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶...
高真空腔体--HVC-SS 参考价：面议
本公司提供高真空腔体，客户可自行为一些实验搭建真空系统，如等离子溅射，CVD或ALD等实验，同时也可作为高真空储存箱。
100W小型RF（射频）电源（采用手动匹配）--RF-100-LD 参考价：面议
RF-100-LD是一款小型手动匹配100WRF（射频）电源，频率为13.56MHz.此设备设计专门与本公司的1英寸的磁控溅射头配用，可搭建起一套比较廉价的溅射...
高温提拉涂膜机--PTL-HT 参考价：面议
PTL-HT高温提拉涂膜机能够提供温度高达1000℃的提拉涂膜环境，广泛用于各种高温提拉涂膜研究。例如，陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜。本机...
全自动5工位恒温提拉涂膜机--PTL-OV5P 参考价：面议
PTL-OV5P全自动5工位恒温提拉涂膜机用于同一样件在不同液相中的多层涂膜，Z多可达到5层。本机广泛用于纳米、化工、金属等材料领域，更是广大高等院校、研究院所...
恒温提拉涂膜机--PTL-MMB01 参考价：面议
PTL-MMB01恒温提拉涂膜机是专为研究液相外延薄膜而设计的，在恒温环境中，通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。
旋转涂层机--VTC-50 参考价：面议
VTC-50旋转涂层机能够瞬间提供可控高速旋转速度，迅速将液体、胶状体等材料在衬底上成膜。由于采用铸铝结构，在高转速下运行平稳。
防腐型旋转涂层机--VTC-200P 参考价：面议
VTC-200P是一款防腐型真空旋转涂层机，机体和真空旋转盘都采用尼龙材料制作，所以仪器具有非常强的抗酸抗碱性，仪器中包括4个真空吸盘，针对于直径为10mm到6...
小型流延自动涂膜烘干机 参考价：面议
MSK-AFA-III是一款带有自动烘干功能的小型涂覆机，通过匀速地推动精密制膜器，已达到平滑和均匀的涂覆效果。仪器采用真空吸附来固定衬底，使得涂覆过程中衬底不...
3靶等离子溅射仪 参考价：面议
VTC-16-3HD是一款紧凑型CE认证的等离子薄膜溅射仪（直流普通型），基片Z大尺寸2英寸，加热温度为500度和控制面板为触摸屏模式。它可以溅射三种类型的靶材...
小型蒸镀仪--GSL-1100X-SPC-15E-LD 参考价：面议
GSL-1100X-15E是一款小型真空镀膜仪，特别适合蒸镀一些轻金属，如 Al. Mg, 和Li等。同时也可对样品进行镀碳处理，Z大可处理的样品直径为50mm...
高真空蒸发镀膜仪--GSL-1800X-ZF4 参考价：面议
GSL-1800X-ZF4是一款高真空的蒸发镀膜仪，特别适合蒸镀一些对氧较敏感的金属膜，如Ti, Al 和Au等，也可蒸镀各种氧化物材料。此款蒸镀仪安装有4个蒸...
近距离蒸发镀膜 （ CSS）炉 参考价：面议
OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸发管式炉，专门针对于用PVD或CSS法来制作薄膜。此款管式炉炉管直径为11" OD，炉管内载样盘可放置3" 的圆形或...
膜厚监测仪--EQ-TM106 参考价：面议
EQ-TM106膜厚监测仪是采用石英晶体振荡原理，结合先进的频率测量技术，进行膜厚的在线监测。主要应用于MBE、OLED热蒸发、磁控溅射等设备的薄膜制备过程中，...
500W直流等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2DC 参考价：面议
VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC电源、2英寸的磁控溅射头、石英真空腔体...
300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF 参考价：面议
VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2“的磁控溅射头、石英真空...
1英寸小型磁控射频溅射镀膜仪--VTC-1RF 参考价：面议
VTC-1RF是一款小型台式单靶等离子溅射仪（射频磁控型），配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频（RF）等离子电源，此款设备主要用于制作非导电薄膜，特别是一些氧化...
双靶磁控溅射仪 参考价：面议
VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪，其中一个靶头采用直流（DC）溅射，可溅射金属靶材制备金属膜，另一个采用射频（RF）溅射，...
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