等离子体监控系统 返回列表页

等离子体监控系统采用等离子体光谱仪器制造离子体监测系统，适用于等离子体技术的几乎任何应用，包括等离子体分析、等离子体监测和工艺you化。满足生产线等离子体工艺的整体过程控制和质量保证。

等离子体监控系统特点

广泛的测量数据采集

等离子体发射模块与光纤光谱仪一起工作以高速连续采集从UV到NIR的等离子体光发射的光谱。这个HIPIMS/Pulse模块允许对MHz范围内的电压信号和层进行触发采样控制模块获取生长薄膜的反射光谱和/或透射光谱。此外，信号辅助传感器可以通过模拟电压输入输入。

实时监控等离子体过程参数

从所获取的发射数据中，可以选择任意数量的等离子体线，持续监控等离子体条件和成分。HIPIMS/Pulse模块提供电压以及来自脉冲切片的电流值，例如HIPIMS过程的峰值电流。这个层控制模块基于宽带光谱拟合来计算膜厚度，或者相对于标准颜色空间的颜色值。从模块获取的所有数据实时导出，并且可以作为时间的函数显示为所谓的监视器轨迹从而实时提供过程状态的全面画面。

等离子体测量仪典型应用：过程监控，探测等离子体蚀刻终点，等离子体污染和泄露，

等离子体监控系统规格参数

工作类型：fieldbus 系统集成，实时过程监控

光谱传感器：200-1100nm

光谱通道：8个

光谱分辨率：1.5nm

动态范围：16bit

时间分辨率：1ms

采样时间：250us~分钟

数据存储：发射光谱，脉冲曲线,光谱层,信号传感器