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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>工艺测量和检测设备>关键尺寸测量设备> 非接触式晶圆厚度测量仪 MX 301-Q

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非接触式晶圆厚度测量仪 MX 301-Q

具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称 那诺中国有限公司
  • 品牌
  • 型号
  • 产地
  • 厂商性质 生产厂家
  • 更新时间 2025/7/21 22:36:37
  • 访问次数 122

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那诺中国有限公司专注于为大中华区域(包括中国大陆、香港、澳门和中国台湾)的高校、科研院所、企业研发与生产等企业机构提供高性能、高性价比、定制化的薄膜工艺加工设备及科学分析检测仪器。


那诺中国提供美国那诺-马斯特薄膜工艺加工设备(包含磁控溅射、热蒸镀、电子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、离子束、DRIE、晶圆兆声清洗机等)。


那诺中国提供英国KORE基于飞行时间的质谱仪,包含飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)、质子转移反应(PTR)质谱仪、电子轰击电离(EI)质谱仪等。





ALD,PECVD,RIE,磁控溅射,热蒸镀,电子束,离子束,晶圆清洗机,PA-MOCVD,飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)

非接触式晶圆厚度测量仪 MX 301-Q是一款坚固耐用、性能稳定的晶圆厚度测量系统,用于快速、简单地手动测量各类硅片的厚度,特别适用于由石英、蓝宝石或玻璃等绝缘材料组成的各种晶圆厚度控制。该应用非常方便的一个新功能是不需要测量块或校准样片。它wan全是自动校准的!这意味着温度变化和运输后的机械变化也会得到补偿。内置5位数字显示屏,可独立工作,也可通过串行接口与电脑连接,便于采集多次测量数据,并计算出单个晶圆或整批晶圆的平整度(TTV)、平均值及标准偏差。

在电容式传感器对周围布置两个光栅装置,可准确判断该传感器是否处于wan全未被晶圆遮挡、部分遮挡或wan全遮挡的状态。


非接触式晶圆厚度测量仪 MX 301-Q


非接触式晶圆厚度测量仪 MX 301-Q适用于 30 至 200 毫米(更多尺寸可咨询扩展定制)非导电晶圆的简易单点厚度测量。使用此型号的晶圆厚度测量仪,可以简单便捷地测量石英、蓝宝石或者玻璃等非导电材料的晶圆厚度。在此前提下,需要预先了解材料的介电常数。该参数可通过测量已知样品的物理尺寸并结合相关公式计算得出。

绝缘材料的厚度测量取决于其相对介电常数(即介电常数,通常用希腊字母ε表示)。

实际厚度计算公式:T(实际厚度)=T(测量厚度)*ε/(ε-1)

例如:当ε为10时,若介电常数存在 1% 的测量误差,将导致约 0.1% 的厚度计算偏差。


主要技术参数(更多参数及型号,具体详情请电联或者留言):

晶圆尺寸
up to 200mm
厚度准确性±0.5μm
分辨率
0.1μm
厚度范围
default 450 - 750µm
可测量高电阻率材料
yes
软件
EHMaster
电源100 – 240 V, 50 – 60 Hz






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