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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>工艺测量和检测设备>关键尺寸测量设备> 晶圆厚度测量仪 MX 102-8

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晶圆厚度测量仪 MX 102-8

具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称 那诺中国有限公司
  • 品牌
  • 型号
  • 产地 德国
  • 厂商性质 生产厂家
  • 更新时间 2025/7/4 15:22:11
  • 访问次数 184

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那诺中国有限公司专注于为大中华区域(包括中国大陆、香港、澳门和中国台湾)的高校、科研院所、企业研发与生产等企业机构提供高性能、高性价比、定制化的薄膜工艺加工设备及科学分析检测仪器。


那诺中国提供美国那诺-马斯特薄膜工艺加工设备(包含磁控溅射、热蒸镀、电子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、离子束、DRIE、晶圆兆声清洗机等)。


那诺中国提供英国KORE基于飞行时间的质谱仪,包含飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)、质子转移反应(PTR)质谱仪、电子轰击电离(EI)质谱仪等。





ALD,PECVD,RIE,磁控溅射,热蒸镀,电子束,离子束,晶圆清洗机,PA-MOCVD,飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)

晶圆厚度测量仪 MX 102-8适用于 150 - 200 mm硅片的高分辨率厚度与平整度(TTV)测量仪。只需几秒钟即可轻松适应不同厚度范围,可集成到自动机器人分拣系统中。适用于研发、工艺验证以及厚度和平整度(TTV)的工艺控制。一对电容式传感器会在每片晶圆上测量四个径向轮廓(45 度角)。其中一个轮廓包含 200 个局部厚度值,并相对于相邻轮廓偏移 45 度。配有强大的 MX-NT 操作软件。

晶圆厚度测量仪 MX 102-8

仪器功能:
晶圆厚度测量仪 MX 102-8基于已有的适用于 150 mm和 200mm晶圆的类似测量设备,MX 102 能够生成四个(或八个)径向剖面图,每个剖面图包含数百个精确的厚度数据点。该设备配备了一对分辨率为 10 纳米的电容式传感器,能够在数秒内快速适应不同的厚度测量范围。在每次扫描之前,设备会通过一个经过认证的标准量块实现自动重新校准,以确保测量结果的高度准确性。

多次扫描:
对于众多应用场景而言,标准的四次径向扫描通常已能满足需求,特别是针对经过研磨处理后接近旋转对称特性的晶圆。从理论角度分析,通过增加扫描次数,可实现对晶圆表面约 50% 区域的覆盖。然而,由于晶圆支撑结构的存在,其余部分区域则会位于支撑点所形成的“遮挡范围”内,难以直接进行扫描。

XN-Option:
针对 200 mm晶圆,通过引入一种简易的附加运动即可有效解决上述问题。在测量周期的第一阶段完成后,晶圆将被抬升,并由两个夹具进行临时固定,与此同时,晶圆下方的转盘执行 45 度旋转操作。随后,晶圆重新下降至支撑结构,并由真空吸盘完成二次夹紧,此时测量周期的第二阶段随即启动,从而实现对剩余区域的全面覆盖。

晶圆厚度测量仪 MX 102-8


MX 102 在分辨率与通量之间实现了优化平衡:第二次扫描周期的偏移角度为 22.5 度,从而生成八个交叉扫描剖面,总测量点数可达约 2400 个或更多。通过简单的三维图形化展示,能够直观呈现晶圆的整体几何特性。

晶圆厚度测量仪 MX 102-8

重复性示例:

晶圆厚度测量仪 MX 102-8


技术参数:
晶圆直径:150mm,200mm
准确性:±0.1μm
分辨率:10nm
空间分辨率:1mm
扫描次数:4
软件:MXNT

相关产品:
型号MX 102-6MX 102-8MX 1012MX 1018
晶圆尺寸4'', 5'', 6''6'', 8''8'', 12''12'', 18''
准确性±0.1μm±0.1μm±0.1μm±0.3μm
分辨率10nm10nm10nm10nm
空间分辨率1mm1mm1mm1mm
扫描次数44up to 8up to 8
厚度动态范围100 or 350μm100 or 350μm100 or 350μm100 or 350μm
软件MXNTMXNTMXNTMXNT





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