高真空单辊旋淬及喷铸系统--XC500

高真空单辊旋淬及喷铸系统--XC500

真空室结构:圆筒形前开门

真空室尺寸:φ500X300mm

极限真空度:≤6.67E-5Pa

沉积源:

样品尺寸，温度:感应熔炼10克纯铁样品，在30秒钟内化

占地面积(长x宽x高):约2.7米x1.4米x2米

电控描述:手动

工艺:不含工艺

特色参数: 高速辊轮线速度0-50m/s可调;坩埚手动直线进给机构;条带接收器:Ф125x1500mm

产品概述:

系统主要由感应熔炼真空室、转动门、单辊旋淬装置、感应熔炼机构、手动直线进给机构、喷铸系统、工作气路、系统抽气、真空测量及电气控制系统、安装机台等各部分组成。

设备用途:

高真空单辊旋淬及喷铸系统是用来制备和开发亚稳材料(如非晶态材料)的专用设备，该设备具有制备金属非晶及金属薄带的功能,适用于各种非晶及微晶材料的研究及实验工作，广泛用于新型稀土永磁材料、非晶软磁材料及纳米材料科学的开发与研究。