高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500
具体成交价以合同协议为准
- 公司名称 北京慧龙环科环境仪器有限公司
- 品牌 沈阳科仪
- 型号
- 产地
- 厂商性质 经销商
- 更新时间 2025/5/21 11:36:15
- 访问次数 25
联系方式:慧龙环科18911758155,18910319870 查看联系方式
联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!
高真空磁控溅射薄膜沉积系统--PVD500
真空室结构:方形前开门
真空室尺寸:p500x500x500mm
极限真空度:≤3.0E-5Pa
沉积源:永磁靶4套,2英寸
样品尺寸,温度:p4英寸,1片,最高800°C
占地面积(长x宽x高):约2米x1.7米x2米
电控描述:全自动
工艺:片内膜厚均匀性:≤3%
特色参数:
产品概述:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业的软件控制系统。
设备特点:
本设备是一个镀膜平台,可把磁控靶拆下换电子枪成为电子束镀膜系统、或换蒸发源作为热蒸发系统、或换上离子枪作为离子束镀膜系统等。
设备用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研项目