CTR100 Leybold莱宝电容薄膜真空计

Leybold莱宝电容薄膜真空计（CTR100）

工作原理

l电容测量原理：该真空计基于薄膜与固定电极之间的电容变化进行压力测量。当压力改变时，薄金属膜会相对于电极位置发生变化，从而导致电容改变，且电容变化与压力变化成正比。

l气体类型无关性：由于薄膜位置的变化只与压力有关，与气体类型无关，因此无论测量何种气体，变送器都能提供相同的输出信号，无需进行气体校正。

性能特点

l高精度与高重复性：具有出色的精度，在不同测量范围有不同的精度表现，如范围≥1 托时，精确度为读数的 0.20%；0.1 托范围时，精确度为读数的 0.50%。同时，测量重复性好，能为真空测量提供可靠的数据。

l良好的温度补偿：无论环境条件如何变化，都能实现非常好的温度补偿，确保测量结果不受温度波动的影响。

l高耐腐蚀性：采用纯焊接 Inconel® 和 Incoloy® 镍合金材料，传感器高度耐腐蚀性，能抵御常见工艺化学品、氧化、渗碳、点蚀、缝隙腐蚀、腐蚀开裂和高温等的侵害，适用于各种腐蚀性环境。

l快速准确响应：对压力变化响应迅速，在全量程范围≥1 托时，从全量程的 0% 至 90%，响应时间仅为 40 毫秒；对于 0.1 托，从全量程的 0% 至 90%，响应时间为 80 毫秒，能够及时准确地反映真空系统中的压力变化。

l高过压承受能力：具有较高的过压额定值，能够承受压力突变而不会遭受物理损坏或校准偏移，提高了设备的可靠性和稳定性。

l多种通信接口：配备 RS232 数字通信接口，可用于设定变送器参数并提供实时压力测量；同时还具有 0-10 伏直流模拟输出信号，可连接至外部模拟设备进行压力读数或压力控制。

Leybold莱宝电容薄膜真空计（CTR100）

技术参数

应用领域

l半导体行业：用于半导体制造过程中的薄膜沉积、蚀刻、离子注入等工艺的真空测量和控制，确保工艺的稳定性和一致性。

l化学工业：适用于化学气相沉积（CVD）、真空蒸馏、真空干燥等工艺，以及腐蚀性气体环境下的真空测量与控制。

l材料处理：如真空炉、陶瓷烧结、物理气相沉积（PVD）等过程中的真空度监测和控制，有助于提高材料的质量和性能。

l分析仪器：可与电子显微镜、热分析仪、质谱仪等分析仪器配合使用，为仪器提供准确的真空环境测量。

l其他领域：还可应用于 LED 和太阳能电池制造、真空镀膜、真空包装等领域的真空测量和控制。