Nikalyte NL-UHV超高真空纳米颗粒沉积源

Nikalyte NL-UHV超高真空纳米颗粒沉积源

产品编号：Nikalyte NL-UHV超高真空纳米颗粒沉积源

类别：制造、纳米颗粒沉积、技术

NL-UHV能够在超真空中生成和沉积纳米颗粒，以在样品上创建功能化表面。 可以通过精确控制纳米颗粒的尺寸、组成和结构来定制纳米颗粒涂层的特性，从而实现定制化特性。

NL-UHV仪器允许将超纯纳米颗粒直接沉积在各种基底和材料上。可以调整膜的密度，并且涂层能够很好地附着在样品表面。 NL-UHV有多种配置可供选择，包括单个1英寸和2英寸源，以及三重1英寸源NL-DX3，后者允许单独或作为合金沉积多达三种材料。 NL-QMS质量过滤器提供了对纳米颗粒沉积的高级控制，允许实时按质量或直径扫描或过滤纳米颗粒。 NL-QMS通过用户友好的WindowsTM软件操作，为沉积过程提供了直观的控制。

介绍超真空-合金纳米颗粒沉积 Nikalyte NL-UHV，合金纳米颗粒沉积仪器系列，能够在超真空中将纳米颗粒生成并沉积到您的样品上，以创建功能化表面。通过精确控制纳米颗粒的尺寸、组成和结构，可以定制纳米颗粒涂层的特性。

与化学技术不同，NL-UHV系列仪器允许将超纯纳米颗粒直接沉积在各种基底和材料上。可以调整膜的密度，且膜本身可以高度附着在样品表面。

NL-UHV可配备单个1英寸、2英寸源或三重1英寸源NL-DX3。NL-DX3允许使用两种或三种材料同时单独或作为合金沉积多达三种材料。

为了实现对纳米颗粒沉积的控制，Nikalyte NL-QMS质量过滤器允许实时按质量或纳米颗粒直径扫描或过滤沉积的纳米颗粒，使您能够优化生长条件。NL-QMS通过

我们简单直观的WindowsTM软件进行控制。

纳米涂层孔隙率

NL-UHV能够生成带电和不带电的纳米颗粒，但大部分纳米颗粒带有负电荷。纳米颗粒的带电状态意味着它们可以通过静电操纵，无论是聚焦、偏转还是加速。通过在样品上施加正加速偏压，可以控制沉积的纳米颗粒层的孔隙率。对于低加速偏压（约几百伏），纳米颗粒会轻柔地着陆并形成高度多孔的层。在更高的加速能量（约1千伏）下，纳米颗粒会经历一定程度的界面混合，并且更牢固地附着在基底上。在非常高的加速能量下，沉积的纳米颗粒层会恢复到块体特性，对于软基底，甚至可以植入基底材料中。 通过控制加速偏压和选择基底材料，可以创建一系列不同的涂层，从轻柔着陆的纳米多孔层（适用于 delicate substrates，如 polymers 和 graphene）到高度附着的，甚至在某些情况下植入的纳米颗粒涂层。通过在整个沉积过程中改变加速偏压，也可以创建具有梯度孔隙率的涂层。

纳米颗粒结构

纳米涂层通常是由晶体或非晶态纳米颗粒组成的三维材料。 纳米颗粒的结构因其尺寸而受到强烈影响，因为其表面能与二维或块体材料相比更强。 纳米颗粒在聚集区的停留时间和等离子体温度也在形成过程中发挥作用。 通过调整磁控管功率、聚集长度和气体流量等工艺参数，可以形成不同的纳米颗粒结构。 NL-UHV冷却夹套还提供了选择水冷或液氮冷却的选项。 使用液氮冷却可以对聚集区的温度进行更广泛的控制，这对于在极低温度下成核（形成纳米颗粒）的材料（如硅）特别有用。 研究表明，液氮可以将硅的沉积速率提高几个数量级。