Nikalyte NL-FLEX物理气相沉积系统

Nikalyte NL-FLEX物理气相沉积系统是一款超多功能的PVD（物理气相沉积）系统，能够生成纳米颗粒和薄膜，非常适合工业和学术研究。NL-FLEX可以容纳各种类型的基底，包括卷对卷、非平面和粉末涂层。它适用于广泛的应用领域，包括催化、光子学、能量存储、传感器和生命科学。这种模块化的PVD沉积系统可以与分析工具集成，为您提供定制化的研究解决方案。

主要特点：

·         通过结合纳米颗粒和薄膜生成复杂材料。

·         使用NL-UHV技术生产无烃纳米颗粒。

·         空间宽敞且易于进入的真空腔，非常适合处理精细和复杂的基底。

·         可选择向上或向下配置的源。

·         兼容第三方源。

·         提供旋转、加热和偏置选项，用于三维物体的涂层。

·         自动化且由配方驱动的软件。

·        

基础系统配置：

·         沉积腔尺寸：450 mm × 450 mm × 450 mm

·         基础真空度：< 5×10⁻⁷托

·         溅射方向：向下溅射

·         样品台：4英寸晶圆，20转/分钟旋转

·         抽真空系统：700升/秒涡轮分子泵，配备7.2立方米/小时干式前级泵

·         阀门：手动阀门、快门和线性驱动装置

·         控制软件：配方驱动的工艺控制、电源控制和数据记录

·         原位监测：石英晶体微量天平用于工艺监测和终点检测

·         源端口：最多可连接6个沉积源

·         源类型：纳米颗粒源、磁控溅射源、小型电子束蒸发源、热舟源、K型离子源、射频原子源

Nikalyte NL-FLEX物理气相沉积系统可选配置：

·         可拆卸的沉积屏蔽装置

·         向上配置的源几何结构

·         样品台选项：

o    直流偏置用于纳米颗粒加速

o    射频偏置用于样品表面清洁

o    加热至800℃

·         阀门、快门和线性驱动装置的自动化选项

·         涡轮泵前的可调挡板，用于在较低气体流量下增加溅射的动态压力范围

·         单独抽真空的装卸锁和传输臂