Nikalyte NL-Cube物理气相沉积系统
- 公司名称 杭州雷迈科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型号
- 产地
- 厂商性质 代理商
- 更新时间 2025/1/26 11:49:11
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Nikalyte NL-Cube物理气相沉积系统是一个紧凑且灵活的PVD（物理气相沉积）系统，具备薄膜、纳米颗粒和合金沉积能力。该系统有两种型号：375型（最多可容纳五个源，基底直径可达四英寸）和300型（最多可容纳四个源，基底直径可达两英寸）。由于其体积相对较小，真空腔体的抽真空速度较快，周转时间约为30分钟。
Nikalyte NL-Cube物理气相沉积系统可兼容多种源，包括磁控溅射源、纳米颗粒源、小型电子束源、热舟源以及原子和离子源。系统可以配置为向上溅射或向下溅射模式。此外，还提供基底旋转、偏压以及最高可达800℃的加热选项。
真空腔体在英国制造，采用高质量的304不锈钢材质，并配有轻质铝制门。它安装在一个系统机架上，该机架包含控制系统、电源和真空泵。整个系统配备轮子以便移动，并在定位后可锁定脚部以固定位置。
集成的PC和多功能Spectrum软件提供了无缝的用户体验，使客户能够远程控制该系统并运行复杂的工艺配方。
关键特性：
· 可用的源包括磁控溅射源、纳米粒子源、小型电子束源、热舟蒸发源、原子源和离子源。
· 提供向上溅射或向下溅射配置。
· 提供旋转、偏压以及高达800℃的加热选项。
· 周转时间约为45分钟。
· 真空度可达5×10⁻⁷托。
· 系统机架包含控制系统、电源和泵。
· 集成的个人电脑配备Spectrum软件，可实现自动化过程控制、复杂配方和数据记录。
The Cube系统配置：
项目 | Cube 300 | Cube 375 |
沉积腔尺寸 | 300×300×300 mm | 375×375×375 mm |
基础真空度 | <1×10⁻⁶托 | <5×10⁻⁷托 |
溅射方向 | 向下溅射/向上溅射 | 向下溅射/向上溅射 |
样品台 | 2英寸晶圆，20转/分钟旋转，射频/直流偏压和加热至400℃ | 4英寸晶圆，20转/分钟旋转，射频/直流偏压和加热至800℃ |
抽真空系统 | 80升/秒涡轮分子泵配7.2立方米/小时干式前级泵 | 300升/秒涡轮分子泵配7.2立方米/小时干式前级泵 |
阀门 | 手动/自动阀门、快门、直线驱动和抽真空挡板阀 | 手动/自动阀门、快门、直线驱动和抽真空挡板阀 |
控制软件 | 配方驱动过程、电源控制和数据记录 | 配方驱动过程、电源控制和数据记录 |
原位监测 | 石英晶体微量天平用于过程监测和终点检测 | 石英晶体微量天平用于过程监测和终点检测 |
源端口 | 最多4个沉积源 | 最多5个沉积源 |
源类型 | 纳米粒子源、磁控溅射源、小型电子束蒸发源、热舟蒸发源、K型离子源、射频原子源 | 纳米粒子源、磁控溅射源、小型电子束蒸发源、热舟蒸发源、K型离子源、射频原子源 |
涂层均匀性 | ±2%（样品旋转时） | |
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