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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>无掩模光刻机/直写光刻机> 无掩膜/激光直写光刻机

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无掩膜/激光直写光刻机

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深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体前道制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司目前已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。







冷热台,快速退火炉,光刻机,纳米压印、磁控溅射,电子束蒸发

一、无掩膜/激光直写光刻机 产品介绍:

1. 光源:375 nm、385 nm、405 nm 激光器

2. 线宽:0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm                                                                                        

3. 光刻效率:可达到3000mm2/min@5μm

4. XY行程:55~205mm

5. 样品尺寸:最小3mm*3mm  最大8 inch

6.应用领域:生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光学元件、先进芯片封装、光通讯芯片光刻

二、无掩膜/激光直写光刻机 公司简介:                                  

深圳市矢量科学仪器有限公司是集半导体仪器装备代理及技术服务的高新技术企业。

致力于提供半导体制程工艺装备、后道封装装备、半导体分析测试设备、半导体光电测试仪表及相关仪器装备维护、保养、售后技术支持及实验室整体服务。

公司已授实用新型权利 29 项,软件著作权 14 项,是高新技术企业、创新型中小企业、科技型中小企业、规模以上工业企业。

 

 

 



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