进口高真空离子溅射仪

进口高真空离子溅射仪针对绝大多数扫描电镜应用，高真空模式或高分辨模式，要求样品必须导电良好，否则样品表面荷电造成图像缺陷和分辨率恶化。在非导电绝缘材料表面制备1-10nm金属导电膜层是常用的样品处理手段，可采用离子溅射镀膜法或热蒸发镀膜法，前者更为方便，使用更为广泛，离子溅射仪在很多情况下是扫描电子显微镜实验室标配。

进口高真空离子溅射仪，采用磁控溅射方式，获得超级精细膜层，广泛用场发射扫描电镜超高分辨观察，或透射电镜样品制备碳支持膜，可用于其他高质量镀膜实验研究。采用阳极保护栅网，实现镀膜过程中样品表面保持常温状态，没有热损伤。该溅射仪具有样品等离子清洗刻蚀功能，可选配蒸碳附件。

主要功能：

1、精细、超精细离子溅射导电膜制备；专业级金属膜层试验。

2、样品等离子刻蚀清洗

3、蒸碳镀膜

主要特点：

1、磁控溅射速度快。对于扫描电镜或透射电镜制样，抽真空-溅射-泄真空3分钟完成。

2、镀膜质量更高，可获得精细晶粒膜层，膜层结合力强度高。可使用结晶更细小的金属靶材。

3、对样品无热损伤的冷溅射。

4、样品等离子刻蚀功能，一个手动控制挡板降低样片在刻蚀过程中受到的污染。

5、基于PLC的强大控制系统，全部触摸屏操作，可手动、半自动控制、全自动控制。

6、真空高压互锁安全机制

7、标准的操作软件，实时监控各部件状态，方便技术支持，节约用户费用。

性能指标：

标准配置

样品室：      φ150mm X 150mm(H) 不锈钢真空室，带观察窗

靶：          金GOLD或金钯合金GOLD/PALLADIUM（随机）φ50mmX0.1mm

样品台：      φ50mm 旋转样品台

溅射电流：    0-100mA

真空规：      皮拉尼+热电偶

溅射气体：    氩气

真空泵：      85L/Min 机械泵

             Pfeiffer 70 lps涡轮分子泵

             15分钟抽到5E-6Pa 极限真空。获得超高真空环境，提高镀膜质量

选配

膜厚监控：    石英晶体膜厚监控器

样品台：      φ75mm 旋转样品台

             φ100mm旋转样品台（选此台，膜厚监控器无法安装）

             旋转倾斜样品台 （选择此台，无法实现样品刻蚀功能）

蒸碳附件：    碳棒或碳丝绳