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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>匀胶机>M6 Spin Coater MINN M6匀胶旋涂仪

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M6 Spin Coater MINN M6匀胶旋涂仪

具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称 迈可诺技术有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型号 M6 Spin Coater
  • 产地
  • 厂商性质 代理商
  • 更新时间 2025/7/1 20:58:12
  • 访问次数 4224

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联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


半导体化工领域专业实验设备供应商:迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司,专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商,迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务,帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定,尊重他们的决定,并协助他们实现高效率的科研成果,追求丰富有意义的生活。




匀胶机,光刻机,显影机,等离子清洗机,紫外臭氧清洗机,紫外固化箱,压片机,等离子去胶机,刻蚀机,加热板

产地类别 国产 应用领域 生物产业,能源,电子/电池

MINN M6匀胶旋涂仪 可旋涂处理小碎片至6英寸圆晶圆片,使用无刷直流双向旋转马达控制,转速稳定,控制器可拆卸配合手套箱使用,4.3英寸全彩触屏人机界面操作,简单易用。M6 Spin Coater外形美观,结构紧凑,专为实验室,研发和小规模生产部门提供性价比高的匀胶涂覆设备。MINN M6匀胶旋涂仪 在材料、化学或生物等实验室被广泛用于薄膜制备,纳米薄膜研究等相关领域。

 

二、技术参数

1.保护气体装置:旋涂过程中对旋转马达进行气流保护(可选择取消);

2.支持Wafer尺寸:小标配为10 mm,可选配到3mm或5mm;大到直径6英寸(150mm)的圆片或边长5x5英寸(125x125mm)的方片,无需更换片托;

3.设备材质:全部采用易清洁的NPP天然聚丙烯材质,环保,抗震,耐腐蚀;

4.无刷马达:直流双向旋转,正反旋转速度±100~±12000rpm,稳定性能误差±1rpm

5.马达安全模式:可设置非真空模式,转速3000rpm,加速度500rpm/s

6.加速度可控范围:100-30000RPM/S;

7.工艺时间:每步可以设定45小时,精度不超过0.1秒;

8. PLC控制:4.3英寸全彩触摸屏高精度PLC可编程的控制器;

9.程序段:可存储99个程序段,每个程序段可设置50个不同步骤的速度状态;

10.无油真空泵:220V/50Hz真空吸附范围25-28 英寸汞柱 (~635-711毫米汞柱)可调节;

11.扩展功能:可升级预留端口,可扩展自动滴胶装置、自动去边装置、手动去边等选配项。

 

三、设备性能特点

马达控制:无刷直流双向旋转;

智能程控:控制器可拆卸,4.3英寸寸全彩触屏,配有智能触碰笔,按键有提示音,选中功能有颜色区分,适用于手套箱;

腔体材质:易清洁的NPP天然聚丙烯材质,抗腐蚀性;

模式切换:可自由切换单步模式、多步模式和曲线分析图;

防止堵胶:双真空腔设计;

预留端口:可升级扩展其他多种选配项;

密码功能:设有开机密码和管理员密码,管理员有权限修改核心参数;

安全报警:系统盖板嵌锁、真空异常、通气异常、系统进胶、马达转速异常均会报警,通过声音和界面对话框提示;

气流保护:旋涂过程中对马达进行气流保护(也可选择取消),易维护,易清洁,大幅提高马达使用寿命;

 

四、应用领域

  • 半导体芯片制造
  • 钙钛矿太阳能电池制备
  • 微纳和微流控
  • 纳米薄膜
  • 高分子材料
  • 有机光伏
  • 有机发光二极管
  • 有机场效应晶体管&薄膜晶体管
  • 石墨烯&二维材料

 

主营产品:

Laurell匀胶机     

Harrick等离子清洗机

Thetametrisis膜厚仪  

Microxact探针台

ALD原子层沉积系统

TRION反应离子刻蚀机

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻机       

Novascan紫外臭氧清洗机

Nilt纳米压印机

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板

Annealsys高温退火炉

Kinematic程序剪切仪

Laurell EDC系统,湿站系统     

Wabash/Carver自动压片机



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