Activator150 SiC和GaN退火及石墨烯生长-快速退火炉

Centrotherm 小批晕生产用垂直炉管CLV200,科研专属

CLV200 小批晕生产用垂直炉管

I 适用于砫衬底的半导体集成电路的生产

是一个独立的小批量晶圆 生产设备，能实现各项热处理工艺，适用于少量生产及 研发。

工艺反应 腔体及加热系统有着*的设计， 升温至 11 00 摄氏度。由于一炉尺寸较小（一批至多 50 片晶圆）， CLV 200 炉管能提供 非常灵活的常压及低压工艺，降低顾客研发费用。

的设计在高效， 低耗上非常出色， 同时也具备了生产各种半导体器件的工艺灵活性。

E1200卧式热反应系统

• 产品简介

E1200型卧式热反应系统是由德国centrotherm公司研制的特为研发、小批量生产用热反应系统。具有小体积、高工艺性能等特点

可用作常压CVD、LPCVD、PECVD、扩散、氧化、退火等工艺过程，以优良的品质、极小的体积、低成本的特点，特别适合低产量、多工艺适应性加工要求的研发或小批量生产。