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EVG301 超声波晶圆清洗机 熔融/混合键合

具体成交价以合同协议为准

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岱美有限公司(Dymek Company Ltd ,下面简称岱美)成立于1989年,是一间拥有多年经验的高科技设备分销商,主要为数据存储、半导体、光通讯、高校及研发中心提供各类测量设备、工序设备以及相应的技术支持,并与一些重要的客户建立了长期合作的关系。自1989年创立至今,岱美的产品以及各类服务、解决方案广泛地运用于香港,中国台湾,中国大陆,泰国,菲律宾,马来西亚及新加坡等地区。

岱美在中国大陆地区主要销售或提供技术支持的产品:

晶圆键合机、纳米压印设备、紫外光刻机、涂胶显影机、硅片清洗机、超薄晶圆处理设备、光学三维轮廓仪、硅穿孔TSV量测、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、主动及被动式防震台系统、应力检测仪、电容式位移传感器等。

岱美重要合作伙伴包括有:n&k Technology ; Veeco di, Wyko, Dektak, IBE, IBD, MTI; Imago; 4D; First Nano; GatanSagitta; AXIC; Tamarack; Thermo Noran; Magnetic Recording Solutions; Schmitt; EVG; Shb; SPTS; ADE; CETR; Contrade; DeWeyl; Filmetrics - Greater China; Global Optron; Herz; Innovative Instrumentation Incorporated; LESCO; Microphysics; OSC; Palomar; PPL JPS; Strasbaugh; Tru-Si; VIC; Westbond; Diamond Innovations; Innovative Organics;nPoint;Photonic Cleaning Technology

如有需要,请联系我们,了解我们如何开始与您之间的合作,实现您的企业或者组织机构长期发展的目标。



膜厚仪,轮廓仪,EVG键合机,EVG光刻机,HERZ隔震台,Microsense电容式位移传感器

价格区间 面议 仪器种类 微流控芯片系统
应用领域 医疗卫生,能源,电子,航天


EVG301 超声波晶圆清洗机 熔融/混合键合

研发型单晶圆清洗系统


一、简介

EVG301 超声波晶圆清洗机 熔融/混合键合采用一个清洁工作台,使用标准DI水冲洗以及超声波,刷子和稀释化学品清洁晶圆作为额外的清洁选项。通过手动加载和预对准,EVG301是一种多功能研发型系统,可实现灵活的清洁程序,支持300 mm晶圆。EVG301系统可与EVG的晶圆对准和键合系统结合使用,在晶圆键合之前清除任何颗粒。旋转夹头可用于不同的晶圆和基片尺寸,以便轻松配置不同的工艺。


二、特征

使用1 MHz兆声波喷嘴或区域传感器进行高效清洁(可选)

刷子擦洗,用于单面清洁(可选)

用于晶圆清洗的稀释化学品

防止从背面到正面的交叉污染

*由软件控制清洁过程


三、可选项

带IR检测的预键合台

用于非SEMI标准基片的工具


四、参数

1、晶圆尺寸:200mm,100-300mm

2、清洗系统:

打开腔室,旋转器和清洁臂

3、腔室:由PP或PFA制成(可选)

4、清洁介质:去离子水(标准),其他清洁介质(可选)

5、旋转夹头:真空夹头(标准)和边缘处理夹头(可选)由金属离子和清洁材料制成

旋转:高达3000 rpm(5秒内)

6、超声波喷嘴:

频率:1 MHz(3 MHz选项)

输出功率:30 - 60 W

去离子水流量:高达1.5升/分钟

有效的清洁区域:Ø4.0mm

材质:PTFE






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