PL400 紫外纳米压印机

一、PL400/PL600纳米压印机技术特点：

▪ 全晶圆压印 - PL600适用于6英寸晶圆处理, PL400适用于4英寸晶圆处理

▪ 低于10纳米分辨率，产率高达99％

▪ 一步自动释放功能，可防止分离过程中模具/基材损坏，使压印产量增大

▪ 支持各种类型的硬模和软模

▪ 可变模具和基材尺寸，灵活方便

▪ 可编程PLC，通过自定义参数进行过程控制，带触摸屏用户界面

▪ 对准功能选项

▪ 多种工艺，适用于各种应用光学器件，显示器，数据存储，生物医学器件，半导体IC，化学合成和*材料等

▪ 专有的紫外线固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制，并且与传统的光刻工艺兼容

本纳米压印是一个独立的纳米压印机包括自动释放™功能的纳米压印模块和自动压印控制器。程序控制，用户可自由设置工艺参数，晶圆与模板由真空卡盘固定，兼容传统的UV固化压印胶工艺，可以快速的实现真空环境下的压印。可以处理各种不同形状、满足直径100mm的模版和基片处理。只需要手动装入和取出模板和基片，其余的操作都是自动化进行，同时附带软件还提供了详细的参数设置。

二、PL400/PL600纳米压印机技术参数

1.1模版尺寸：4/6英寸，兼容1~4/6英寸圆片和不规则的材料；

*1.2基底尺寸：4/6英寸，兼容1~4/6英寸圆片和不规则的材料；

1.3压印模式：硬压印和软压印；

*1.4压印分辨率：小于10nm；

1.5压印压力：14 psi -17psi，可编程；

1.6压印区域：最大4英寸的基底材料；

1.7模版：内置自动分离模版功能；

1.8对准精度：1μm，取决于工艺；

1.9程序控制：PLC程序控制，压印时间和压力可编程；

1.10对准和移动范围：X，Y和Z+/- 5mm，Ɵ:+/- 5°;

*1.11曝光系统：LED紫外线曝光，波长395nm，覆盖9“x 9”区域，强度可编程，最大≥50mW/cm2，曝光时间也可编程；

三、纳米压印机的应用

纳米压印技术凭借其高分辨率和低成本特性，广泛应用于以下领域：

1.半导体与集成电路

制造高密度存储芯片（如NAND闪存、MRAM）。

光子集成电路（如硅光器件、光栅耦合器）。

优势：替代传统EUV光刻，降低优良制程成本。

2.光学器件与显示技术

增强现实（AR）衍射光波导。

液晶显示（LCD）导光板微结构。

超表面透镜（Metalens）的纳米天线阵列。

优势：实现复杂光学结构的低成本批量生产。

3.生物医学与传感器

微流控芯片（Lab-on-a-Chip）的纳米通道。

表面增强拉曼散射（SERS）基底。

生物分子检测的纳米孔阵列。

优势：高精度结构提升检测灵敏度与特异性。

4.新能源与柔性电子

钙钛矿太阳能电池的纳米陷光结构。

柔性电子（如可穿戴传感器）的导电图案。

透明导电膜（如银纳米线网格）。

优势：兼容柔性基材（PET、PI），支持卷对卷（R2R）工艺。

5.防伪与装饰

包装的全息防伪标签。

奢侈品表面的纳米纹理装饰（如抗指纹、哑光效果）。

优势：微结构可定制化，难以复制。