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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>光刻及涂胶显影设备>去胶机>PPC973 PPC等离子去胶机

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PPC973 PPC等离子去胶机

具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称 迈可诺技术有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型号 PPC973
  • 产地
  • 厂商性质 代理商
  • 更新时间 2025/7/1 11:40:39
  • 访问次数 2201

联系方式:邓经理查看联系方式

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


半导体化工领域专业实验设备供应商:迈可诺是一家富有创新精神的高科技公司,专业提供光电半导体化工实验室所需设备耗材的全套解决方案提供商,迈可诺从事开发、设计、生产并营销质量可靠的、安全易用的技术产品及优质专业的服务,帮助我们的客户和合作伙伴取得成功。我们成功的基础是帮助客户做出更好的选择和决定,尊重他们的决定,并协助他们实现高效率的科研成果,追求丰富有意义的生活。




匀胶机,光刻机,显影机,等离子清洗机,紫外臭氧清洗机,紫外固化箱,压片机,等离子去胶机,刻蚀机,加热板

产地类别 进口 应用领域 化工,能源,电子/电池

PLASMA-PREEN等离子清洗/蚀刻系统是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子清洗机系统融合了下面的特点,并在众多的应用领域中得到肯定。

产品特色

负载循环控制,模拟功率控制

处理机存储

水冷底座

减少污水排放

安全保护设计

操作简便 维护方便

应用范围:

混合电路板制造中基片的清洗

打线工艺前清洗电子部件,提高其可靠性

锡焊或焊接工艺前,关键性镀金部件的清洗

清洗半导体元器件

光刻胶去胶

上胶、印刷和其它表面浸湿操作的表面准备

镀膜前对光学器件清洗

清洗石英、蓝宝石及其它材料

适用工艺:

打线垫清洗、减少金属氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片垫;

去除光刻胶、塑料表面上胶处理、去除油渍或是环氧残留物;

清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光学部件、清洗半导体表面、清洗镀银部件;

塑胶密封剂去除--失效模式分析

型号

PPC862

PPC973

反应舱尺寸(H*W*D)

203mm x 152 mm x 50mm

229 x 178 x 76 mm

冷却面(H*W)

203 mm x 152 mm

229 mm x 178 mm

反应舱

方形舱体

方形舱体

反应舱材质

派热克斯玻璃&铝材

派热克斯玻璃&铝材

水冷式

水冷装置

水冷装置

负载比

10%至连续性

10%至连续性

标准流量

5cu-ft./Hr.@STP

5cu-ft./Hr.@STP

频率(GHz)

2.45 GHz

2.45 GHz

功率(Watts)

100750之间调节

100750之间调节

重量 (Kg)

29.5kg

38.5kg

真空泵系统

抽气速率3.8cfm/

抽气速率3.8cfm/



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