迈可诺技术有限公司
主营产品: 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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产品图片 | 产品名称 | |||
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SCS112/SCSe124/SCSe126湿法显影掩膜版清洗系统 简单介绍:SCS112型是一款高效率手动型的湿法显影掩膜版清洗系统,专门设计用于在划片或划片后清洗晶片,针对8英寸晶圆片。SCSe124/126型是用于光掩模,晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案,针对10英寸晶圆片。 产品型号:SCS112/SCSe124/SCSe126 所在地:北京市 更新时间:2024-04-16 |
参考价:面议 询价留言 | |||
CESx124UltraT进口湿法刻蚀和剥离系统 简单介绍:UltraT进口湿法刻蚀和剥离系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。这款高效的蚀刻和清洁系统CESx124、126、128或133是理想选择,可满足不同大小尺寸的晶片、光掩模和衬底,不论是从小直径还是非常大直径。 产品型号:CESx124 所在地:北京市 更新时间:2024-04-16 |
参考价:面议 询价留言 |