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迈可诺技术有限公司
主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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主营产品： 美国Laurell匀胶机,WS1000湿法刻蚀机,Cargille光学凝胶,EDC-650显影机,NOVASCAN紫外臭氧清洗机 |
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UNIXX-SERIES德国osiris显影机：DEVELOPER 简单介绍：德国osiris显影机：DEVELOPER，设计用于：显影、清洁和干燥。晶圆显影机在半导体制造和微纳加工领域起着至关重要的作用，帮助实现微电子元件的精密制造和微米级结构的加工。 产品型号：UNIXX-SERIES 所在地：武汉市 更新时间：2024-04-16 |
参考价:面议 询价留言 | ||
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UNIXX S 30 D显影机 简单介绍：UNIXX S 30 D 显影机是应用于显影工艺的设备，适用的基板尺寸为2英寸到12英寸的 圆片和最大到9英寸x9英寸的方片。新设计的三片式可拆卸工艺腔体可实现良好的工艺 均匀性和重复性，设备也可用于清洗和旋干工艺。 UNIXX S 30 D的落地式柜体经专门设计，方便操作和维修。它是一款手动显影机，适 用于实验室开展科学研究和技术开发。设备具有多选项（例如可编程流体输送臂）并且 可以升级成自动化 产品型号：UNIXX S 30 D 所在地：武汉市 更新时间：2024-04-16 |
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UNIXX S 20 D显影机 简单介绍：UNIXX S 20 D 显影机是应用于显影工艺的设备，适用的基板尺寸最大到8英寸的圆片 和最大到6英寸x6英寸的方片。新设计的三片式可拆卸工艺腔体可实现良好的工艺均匀 性和重复性，设备也可用于清洗和旋干工艺。 UNIXX S 20 D的落地式柜体经专门设计，方便操作和维修。它是一款手动显影机，适 用于实验室开展科学研究和技术开发。设备具有多选项（例如可编程流体输送臂）并且 可以升级成自动化的系统 产品型号：UNIXX S 20 D 所在地：武汉市 更新时间：2024-04-16 |
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LCS半自动旋涂显影刻蚀机 简单介绍：LCS专为晶圆和平面基片的半自动旋涂和开发而设计，将是试点项目、研究所和研发的*。 它保证了高均匀性和可重复性以及简单的操作和维护。 它可以处理最大 150 毫米的晶圆或最大 125x125 毫米的方形基片。 产品型号：LCS 所在地：武汉市 更新时间：2024-04-16 |
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SCS112/SCSe124/SCSe126湿法显影掩膜版清洗系统 简单介绍：SCS112型是一款高效率手动型的湿法显影掩膜版清洗系统，专门设计用于在划片或划片后清洗晶片，针对8英寸晶圆片。SCSe124/126型是用于光掩模，晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案，针对10英寸晶圆片。 产品型号：SCS112/SCSe124/SCSe126 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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CESx124UltraT进口湿法刻蚀和剥离系统 简单介绍：UltraT进口湿法刻蚀和剥离系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。这款高效的蚀刻和清洁系统CESx124、126、128或133是理想选择，可满足不同大小尺寸的晶片、光掩模和衬底，不论是从小直径还是非常大直径。 产品型号：CESx124 所在地：北京市 更新时间：2024-04-16 |
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WS-1000MLaurell-WS半导体湿法刻蚀系列 简单介绍：自1985年起，Laurell公司向遍布所有的生物化工和半导体材料科研领域的实验室提供表面涂敷工艺的解决方案，目前，*有超过15000套系统正在安全运行。WS-1000M Laurell-WS半导体湿法刻蚀系列，全白色聚丙烯构造，可内置任何Laurell公司的旋涂机及显影机，排放简便的入氮口和DI喷头，如果需要单工的系统，可选择WS-1000湿法刻蚀设备，WS-1000系列旋转处理湿法设备可以 产品型号：WS-1000M 所在地：北京市 更新时间：2024-04-15 |
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WS-1000Laurell 湿法刻蚀设备 简单介绍：自1985年起，Laurell 湿法刻蚀设备是生物化工和半导体材料科研领域的实验室提供表面涂敷工艺的解决方案，目前，*有超过15000套系统正在安全运行。 产品型号：WS-1000 所在地：北京市 更新时间：2024-04-15 |
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EDC-650Hz-23NPPBLaurell-EDC匀胶显影机 简单介绍：Laurell-EDC匀胶显影机系列匀胶显影系统适用于半导体前段制程的匀胶，显影，刻蚀，冲洗，甩干等工艺，可通过程序控制多路试剂的显影和湿法腐蚀，我们有着近三十年半导体湿法工艺的经验积累，通过对各路试剂注射的控制，对氮气和去离子水综合应用，能够完整实现样片的干进干出。是当今*和经济的湿法处理解决方案。 产品型号：EDC-650Hz-23NPPB 所在地：北京市 更新时间：2024-04-15 |
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EDC-650Hz-8NPPBLaurell匀胶显影机EDC 简单介绍：Laurell匀胶显影机EDC产于美国，是原装的湿法刻蚀设备美国Laurell,Inc总部位于美国宾夕法尼亚，成立于1985年，是一家专业提供化工半导体材料清洁涂敷处理等特殊工艺的公司。公司拥有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各类显影系统，目前客户已遍布。还有WS-1000湿法刻蚀设备，WS-1000m湿法刻蚀设备等多种半导体湿制成设备。 产品型号：EDC-650Hz-8NPPB 所在地：北京市 更新时间：2024-04-15 |
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EDC-650Hz-23NPPBEDC湿法刻蚀显影机 简单介绍：EDC湿法刻蚀显影机适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。 产品型号：EDC-650Hz-23NPPB 所在地：北京市 更新时间：2024-04-15 |
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