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化工仪器网>产品展厅>半导体行业专用仪器>薄膜生长设备>化学气相沉积设备>Trion Orion HDCVD Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统

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Trion Orion HDCVD Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统

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FIRSTNANO成立于2012年,一家由三位材料学博士共同创办的德国公司。基于 Science is international”的想法,“全球协同实验室”成为三位博士追逐的梦想。

公司愿景是从科学家到科学家,科学开创美好未来。

FIRSTNANO深耕于半导体技术、材料科学、生命科学等科研领域,始终秉承“前沿、专业、科学”的宗旨,将前沿技术引进到协同实验室。我们的产品覆盖了微纳加工制程;材料科学的检测、分析;生命科学成像,脑科学与行为认知等相关领域。作为全球科技前沿的仪器供应商,FIRSTNANO具有全球技术视野、优质供应体系、以及严格的质量管控系统,能为客户提供前沿的技术解决方案。

公司服务的客户领域广泛,其中包括消费电子、航空、航天、医药技术、半导体行业、光电子行业、高校和研究机构。

在成长的过程中,我们脚踏实地、奋勇向前。自2015年香港(中华区)公司成立以来,我们一相继在香港、深圳、上海和武汉设立了分支机构。

我们真诚邀请业内英才加入FIRSTNANO TEAM,一起为梦想扬帆起航!




半导体仪器和电子产品耗材耗材

产地类别 进口

 

 

Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术,在惰性气体进入口安装感应线圈,周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与挥发性物质结合时,会发生化学反应,然后在衬底表面沉积一层薄膜.

该技术不需要将衬底加热到典型的PECVD温度,并且该方法非常适合沉积在有机物、柔性衬底和其它具有温度限制的表面上。            

射频可通过Chuck改变薄膜性能。            

该系统可以升级传送Loadlock,或添加到集群平台Cluster。

该系统可以升级传送Loadlock,或添加到集群平台Cluster。

 

 

 

 



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