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铜箔测厚仪是用于精确测量铜箔(电解铜箔、压延铜箔等)厚度的专用设备,尤其在PCB(印刷电路板)、锂电集流体及柔性电子行业中至关重要。以下是针对铜箔测厚仪的技术解析与选型指南:
一、铜箔测厚仪测试原理
接触式测量
机械千分尺式:采用高精度测头(分辨率0.1μm),符合IPC-4562标准,适用于刚性铜箔。
磁性感应式(仅适用于铜箔基材为钢带时):测量磁头与基材间距换算厚度(误差±0.5%)。
二、铜箔测厚仪主要技术参数
测试范围0 ~ 2 mm(常规)
0 ~ 6 mm;10 mm(可选)
分辨率0.1 μm
测量压力17.5±1 kPa(薄膜);50±1 kPa(纸张)
接触面积50 mm2(薄膜);200 mm2(纸张)
注:薄膜、纸张任选一种;非标可定制
进样步距0 ~ 1000 mm(可选)
进样速度0.1 ~ 99.9 mm/s
气源压力0.4 ~ 0.6 MPa(气源用户自备)
气源接口Ф6 mm聚氨酯管
电源AC 220 V 50 Hz
外形尺寸340 mm (L) × 340 mm (W) × 400 mm (H)
净 重17 kg
三、铜箔测厚仪测试步骤
取样规范:
避开铜箔边缘10mm(辊压工艺导致边缘增厚)。
锂电铜箔需测纵向(MD)和横向(CD)各5点。
校准方法:
使用NIST溯源标准片(如5μm/50μm阶梯箔)。
接触式仪器需清零基材(如聚酰亚胺膜)。
环境干扰:
温度>25℃时铜箔热膨胀系数17ppm/℃需修正。
振动环境下优先选用非接触式。
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