托托科技无掩模光刻机核心功能介绍

托托科技无掩模光刻机核心功能介绍

托托科技推出的无掩模光刻机，以其革命性的技术革新，为微电子、集成电路等制造领域带来了灵活性和高效率。无论是在科学研究、定制化生产、快速原型制造，还是在电子器件、生物医药、光学元件、微机械等众多领域，我们的无掩模光刻机都能提供解决方案。

灵活设计无需掩模版

与传统的有掩模光刻相比，无掩模光刻机更加灵活便捷，省去了制版的时间和金钱成本，帮助您快速验证想法

功能描述：与传统有掩模光刻相比，无掩模光刻技术无需预先制作掩模版，直接通过光刻设备进行图案生成。这种技术省去了掩模版的制作时间和成本，同时避免了掩模版在运输、存储过程中可能出现的损坏风险。

技术原理：无掩模光刻通常采用激光直写、DMD（数字微镜器件）投影等技术，通过精确控制光源和光路，直接在光刻胶上形成所需图案。

应用场景：

快速原型制作：在研发阶段，用户可以快速验证设计，无需等待掩模版的制作。

小批量生产：对于个性化或定制化需求，无掩模光刻可以灵活调整图案，无需更换掩模版。

科研实验：科研人员在进行探索性实验时，可以随时修改设计，提高实验效率。

优势：

提高了设计灵活性，缩短了从设计到制造的时间。

降低了成本，特别是对于多品种、小批量生产场景。

适合于复杂图案和频繁设计变更的场景。

加工精度可达400 nm

加工精度1 μm可以满足大多数加工需求，针对精度要求更高的用户，我们提供加工精度可达400 nm的产品供您选择

功能描述：设备提供两种精度选择，标准精度为1 μm，满足大多数加工需求；对于更高精度要求，设备支持400 nm的加工精度。

技术原理：高精度加工通常依赖于短波长光源（如紫外光）和聚焦光学系统，确保光刻图案的分辨率和清晰度。

应用场景：

半导体行业：用于制造集成电路中的微小结构。

微光学器件：如衍射光学元件、微透镜阵列等。

生物芯片：用于制造微流控芯片和生物传感器。

优势：

满足制造对微纳结构高分辨率的要求。

提供多种精度选择，适应不同用户需求。

速度高达1200 mm²/min

对于大尺寸样品的加工来说，效率变得尤为重要，我们将为您供高速高精度的设备来满足您的需求

功能描述：设备在大尺寸样品加工时，可以实现高达1200 mm²/min的加工速度，显著提升生产效率。

技术原理：高速加工通常依赖于高效的曝光系统和优化的扫描路径算法，确保在保证精度的同时提高加工速度。

应用场景：

大尺寸基板加工：如大面积的PCB板、平板显示基板等。

工业生产：适用于大批量、快速生产的需求。

优势：

缩短了加工周期，提高了生产效率。

特别适合需要快速交付的场景。

加工幅面可达2 m²

如果您是有超大幅面加工需求的用户，我们可提供加工幅面达2 m² 的产品来满足您的需求

功能描述：设备支持2 m²的加工幅面，满足超大幅面加工需求。

技术原理：大加工幅面通常需要高精度的运动控制系统和稳定的光学系统，确保在整个幅面范围内都能保持一致的加工质量。

应用场景：

大型光学器件：如太阳能电池板、大面积显示屏等。

工业制造：用于大型机械部件的表面处理。

优势：

适应多样化的大尺寸加工需求。

提供了一次性加工大幅面图案的能力，减少拼接误差。

灰度光刻可达4096阶

4096阶的灰度能力，能够精准地在光刻材料上构建出具有高度复杂且细腻层次变化的微观结构或图案，为微纳制造领域带来工艺精度与丰富的设计可能性

功能描述：设备支持4096阶灰度光刻，能够在光刻材料上构建高度复杂且细腻的微观结构或图案。

技术原理：灰度光刻通过精确控制曝光剂量，实现不同灰度层次的光刻效果，从而在光刻胶上形成具有高度层次感的结构。

应用场景：

微光学元件：如菲涅尔透镜、微透镜阵列等。

微机电系统（MEMS）：用于制造具有复杂三维结构的微机械部件。

优势：

提供了丰富的设计可能性，能够实现复杂的三维结构。

减少了传统多层光刻工艺的复杂性，提高了制造效率。

托托科技的光刻设备通过无掩模设计、高精度加工、高速扫描、大加工幅面以及灰度光刻等核心功能，为微纳制造领域提供了全面的技术支持。这些功能不仅提升了设备的灵活性和加工效率，还显著降低了生产成本，广泛应用于半导体、光学材料、生物芯片、精密加工等多个领域。这些技术的结合，使得设备能够满足从快速原型到大规模生产的多样化需求，为科学研究和技术创新提供了强有力的支持。