产品专区|颐光科技精选自研产品推荐

颐光科技为您精选了多款光谱椭偏仪、反射膜厚仪自研产品。

ME-L是一款全自动高精度穆勒矩阵光谱椭偏仪，拥有行业前沿的光路调制技术，采用半导体制冷式探测器，具有超高灵敏度和极快的信号采集速度，同时也包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。

ME-Mapping光谱椭偏仪可以满足大尺寸晶圆的多点自动化扫描测量需求，自定义绘制测量路径，支持实时显示膜厚分布以及数据汇总。设备采用双旋转补偿器调制技术，直接测量16阶穆勒矩阵，可获取更多样件信息。具有宽光谱消色差补偿技术以及仪器精密校准算法，大大提升测量准确度和精度，广泛应用于设备厂商/Fab级镀膜均匀性快速测量表征。

SE-VM光谱椭偏仪可实现科研/企业级高精度快速光谱椭偏测量，支持多角度，微光斑等高兼容性灵活配置，多功能模块定制化设计，广泛应用于光通讯/OLED/TP/透明导电膜等涉及透明衬底镀膜测量表征应用。

SR-C反射膜厚仪采用微纳米薄膜光学创新测量技术，应用于各式光学薄膜膜厚快速表征。

SR-Mapping反射膜厚仪利用反射干涉的原理进行无损测量，提供半导体级Mapping测量解决方案，应用于成膜设备/Fab级镀膜等大尺寸薄膜均匀性自定义多点分布测量。

SR-M显微膜厚仪采用微米级聚焦光斑，同时利用显微物镜定位测量点，针对特定微小区域实现微区厚度精准表征。

EOF系列膜厚仪采用Mapping测量机台，支持多种测头参数定制，配备图像识别功能，一键完成整片自动测量。