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应用于半导体新材料和设备管道检漏方案

来源:伯东企业(上海)有限公司   2023年12月01日 10:51  

氦质谱检漏仪应用于半导体新材料和设备管道检漏
上海伯东提供半导体新材料和设备管道检漏解决方案, 助力企业生产高质量的六氯乙硅烷 Si₂Cl₆. 六氯乙硅烷广泛应用于有机硅化合物的合成, 电子半导体材料制造.

半导体新材料和设备检漏: 提升产品良率
半导体生产设备及其相关设施一般在真空环境下工作, 任何一处出现泄漏都可能导致包括产量下降, 产品不达标或严重安全风险. 因此, 在洁净室之内或在任何维护干预之后, 密封性检漏是必须的步骤. 上海伯东提供全面的氦质谱检漏解决方案, 确保生产设施从工艺室到排气系统的真空完整性.

检漏要求: 高精度, 清洁无油, 快速检测, 尽可能缩短停机时间

在真空环境下工作的半导体制造设备氦质谱检漏方法:为了确保最终产品的质量, 真空设施需要避免任何污染. 在安装任何工具或者维护腔室之后, 推荐使用检漏仪真空模式进行设备的密封性测试. 氦质谱检漏仪在真空条件下直接连接到设备, 通过将示踪气体氦气喷洒到可能泄漏源的周围 (比如焊缝, 接头, 阀门等处), 即可定位, 定量检测到存在的漏点. 真空模式下漏率  1X10-10 mbar l/s.

在压力下工作的气体管路和机柜氦质谱检漏方法:
由于工艺气体对自然环境的潜在危害, 此类管线在投入运行前需要通过测试. 推荐使用氦质谱检漏仪吸枪模式, 要测试的管线在压力下充满氦气. 检漏仪吸枪探头可以探测可能逸出的氦气. 吸枪模式下, 漏率 1X10-8 mbar l/s

针对不同的工况, 上海伯东提供合适的半导体设备检漏方案
当复杂系统或大容量系统 (例如处理室或前级管线) 上发生泄漏时, 需要大抽速检漏仪以加快泄漏检测过程, 从而减少设备停机时间. 推荐使用氦质谱检漏仪 ASM 390 或 ASM 392

对于过压系统或难以进入测试区域的情况, 推荐便携式检漏仪 ASM 310 提供较大灵活性的同时又不影响性能和灵敏度.

型号

ASM 310

 ASM 340 D

ASM 390

图片

便携式检漏仪 ASM310

氦质谱检漏仪 ASM340D

氦质谱检漏仪

特点

便携式, 清洁无油

多用途, 清洁无油

大抽速, 移动式, 清洁无油
符合 Semi S2 标准

最小检测漏率

真空模式: 1X10-12 mbar l/s
吸枪模式: 1X10-7 mbar l/s

真空模式: 1X10-12 mbar l/s
吸枪模式: 1X10-9 mbar l/s

真空模式: 1X10-12 mbar l/s
吸枪模式: 1X10-8 mbar l/s

前级泵抽速

1.7 m3/h

 3.4 m3/h

35 m3/h

氦气抽速

1.1 l/s

2.5 l/s

10 l/s


上海伯东德国 Pfeiffer 提供全系列氦质谱检漏仪, 从便携式检漏仪到工作台式检漏仪满足各种不同的应用. 氦质谱检漏仪替代传统泡沫检漏和压差检漏, 利用氦气作为示踪气体可定位, 定量漏点. 氦质谱检漏仪满足单机检漏, 也可集成在检漏系统或 PLC. 推荐氦质谱检漏仪应用 >>

若您需要进一步的了解氦质谱检漏仪, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗小姐 


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