您好, 欢迎来到化工仪器网

行业产品

| 注册| 产品展厅| 收藏该商铺
products

目录:牛津仪器(上海)有限公司>>ICPCVD>> PlasmaPro 100 ICPCVD

PlasmaPro 100 ICPCVD
返回列表页
  • PlasmaPro 100 ICPCVD
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
  • 品牌
  • 型号
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地
属性

>

更新时间：2022-11-30 12:45:42浏览次数：506评价

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息，谢谢!

同类优质产品

更多产品

产品分类品牌分类


    暂无信息

产品简介

This ICPCVD process module is designed to produce high quality films at low growth temperatures, enabled through high-density remote plasmas that achieves superior film quality with low substrate damage. 询价 增加到询价列表 在询价列表中查看此产品

详细介绍

  • 在低温度下沉积低损伤的薄膜
  • 可沉积的典型材料包括： SiO2、Si3N4 、 SiON、Si 和 SiC，衬底温度可低至5ºC 
  • 65mm、180mm、300mm 尺寸的ICP源 提供了工艺的均匀性
  • 晶圆尺寸高至200mm
  • 电极的温度范围为5ºC至400ºC
  • 已获得ICPCVD气体配送技术
  • 实时监测清洗工艺， 并且可自动停止工艺
SiO2

SiO2 deposited using TEOS and O2 by ICP CVD in ~50μm deep trench 4:1 aspect ratio

SiNx

SiNx deposited by ICP CVD at room temperature for 22nm T-gate HEMT

会员登录

请输入账号

请输入密码

=

请输验证码

收藏该商铺

查看我的收藏夹设置标签
标签：
保存成功

(空格分隔,最多3个,单个标签最多10个字符)

常用：

提示

您的留言已提交成功！我们将在第一时间回复您~
以上信息由企业自行提供，信息内容的真实性、准确性和合法性由相关企业负责，化工仪器网对此不承担任何保证责任。温馨提示：为规避购买风险，建议您在购买产品前务必确认供应商资质及产品质量。
在线留言

会员登录

请输入账号

请输入密码

=

请输验证码

收藏该商铺

该信息已收藏！
查看我的收藏夹设置标签
标签：
保存成功

(空格分隔,最多3个,单个标签最多10个字符)

常用：
热线电话 在线询价